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Selektive Bedampfung mittels MolekularstrahlenKupfer, Hartmut, Hecht, Günther 03 March 2010 (has links) (PDF)
Durch eine selektive Bedampfung von Kontaktbauteilen kann der Edelmetallverbrauch gesenkt werden.
Das Molekularstrahlverfahren wird bezüglich seiner Eignung zur selektiven Beschichtung
untersucht. Die wichtigsten Quellenparameter (Verdampfungsrate dN/dt und Halbwertsbreite H) werden
abgeschätzt und mit der experimentell ermittelten Schichtdickenverteilung verglichen.
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Selektive Bedampfung mittels MolekularstrahlenKupfer, Hartmut, Hecht, Günther 03 March 2010 (has links)
Durch eine selektive Bedampfung von Kontaktbauteilen kann der Edelmetallverbrauch gesenkt werden.
Das Molekularstrahlverfahren wird bezüglich seiner Eignung zur selektiven Beschichtung
untersucht. Die wichtigsten Quellenparameter (Verdampfungsrate dN/dt und Halbwertsbreite H) werden
abgeschätzt und mit der experimentell ermittelten Schichtdickenverteilung verglichen.
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