Cette thèse a eu pour objectif le développement d’un contrôle du profil de rotation d’une colonne de plasma. Cette étude est menée dans le but du développement d’une nouvelle génération d’expériences utilisant les plasmas à fort taux d’ionisation pour étudier les phénomènes d’induction magnétique. Au cours de cette thèse, un grand nombre de techniques de mesures optiques et électrostatiques ont été mis en place. Ces dispositifs expérimentaux ont permis la caractérisation de l’évolution des paramètres plasmas en fonction des paramètres expérimentaux et une meilleure description du plasma. Une attention particulière a été porté à la mesure de la température ionique du plasma par deux dispositifs optiques différents : un Fabry-Pérot de grande finesse et un dispositif de Fluorescence induite par laser (LIF). L’établissement du profil de vitesse azimutal du plasma a été mesuré grâce à des sondes de Mach et expliqué en s’appuyant sur les profils radiaux des paramètres plasmas. L’impact sur cette vitesse azimutale de l’injection localisée de courant dans le plasma par une électrode émissive de grande taille a été étudié. Nous avons démontré qu’il est possible de contrôler la forme du profil de vitesse ainsi que son amplitude grâce à ce dispositif d’injection de courant. Enfin, l’apparition d’ondes de dérives pour de fort champs magnétiques a été observée, ainsi que l’interaction entre l’émission de courant dans le plasma et la dynamique de ces ondes. / The goal of this PhD is to develop a setup controlling the rotation profile of a plasma column. This study is realized within the aim of developing a new type of experiments using the strongly ionized plasmas to study magnetic induction phenomena. A great number of plasma diagnostics have been set up during the PhD, including electrostatic and optical diagnostics. These measurement technics have allowed us to characterize the evolution of the plasma parameters depending on the experimental conditions and to build a better description of the plasma. A special focus has been made on the measurement of the ion temperature by two different setups: a Fabry-Pérot with a high finesse and a Laser Induced Fluorescence (LIF) setup. The mean azimuthal velocity profile of the plasma has been measured using Mach probes and explained based on the plasma parameters radial profiles. The effect of localized current injection inside the plasma by a large size emissive electrode has been studied. We have shown that the shape and the amplitude of the velocity profile can be controlled thanks to this setup. Finally, the appearance of drift waves with high magnetic fields has been observed, along with the interaction between the current injection and the dynamic of these waves.

L'objet de cette étude est le dépôt de films minces SiNx à basse température assisté par plasma de haute densité de type DECR (Distributed Electron Cyclotron Resonance) et leur application à la passivation des dispositifs optoélectroniques à base d'InP, tel que le transistor bipolaire à hétérojonction. Dans un premier temps, nous comparons les différentes sources de plasma de haute densité qui sont utilisées pour le dépôt de nitrure de silicium et nous présentons un bilan des diverses méthodes de désoxydation des matériaux semiconducteurs utilisés dans les dispositifs optoélectroniques à base d'InP. Nous avons ensuite choisi de détailler la mise en oeuvre de l'analyse par sondes électrostatiques simple et double, qui constitue l'apport essentiel de ce travail dans l'étude du plasma DECR. Cette méthode nous a permis de mesurer des paramètres cruciaux pour le dépôt, tels que l'énergie des ions lorsqu'ils arrivent sur le substrat ou encore la densité de courant ionique. Ainsi, nous avons pu corréler ces paramètres avec les propriétés des films minces déposés (contrainte, densité, ...). Nous avons également étudié les mécanismes de conduction dans le nitrure de silicium pour différentes épaisseurs de film. La conduction par effet tunnel (mécanisme de Fowler-Nordheim) devient négligeable pour les films d'épaisseur supérieure à 20 nm. Pour ces derniers, la conduction est assistée par les pièges à électrons présents dans le nitrure (mécanisme de Frenkel-Poole). A travers l'étude électrique des structures Al/SiNx/InP, nous avons constaté que le traitement in-situ du substrat d'InP par plasma DECR N2 et/ou NH3 ne permet pas d'optimiser l'interface SiNx/InP. Par contre, nous avons montré que l'utilisation d'un plasma de dépôt riche en hydrogène permettait de réduire l'oxyde présent à la surface de l'InP. L'ensemble de cette étude a permis de définir un procédé de passivation du transistor bipolaire à hétérojonction InP/InGaAs qui a été testé avec succès.

This thesis deals with the study of parameters of diaphragm discharge in liquids. NaCl solution of different conductivity was used as a conductive medium. Conductivities were adjusted in the range from 220 to 1000 µS cm-1. Two diagnostic methods were used for the study of plasma parameters. The first one was employed in the laboratory of plasma chemistry at Faculty of Chemistry, Brno University of Technology, namely the optical emission spectroscopy. The second method used for plasma diagnostics was the time resolved ICCD camera at the Laboratoire de Physique des Plasmas at the École Polytechnique in Paris. The reactor for the diagnostics by optical emission spectroscopy had the volume of 4 l, and it was made of polycarbonate. PET diaphragm was placed in the barrier separating the cathode and the anode space. Electrodes were made of titanium coated with platinum. Electric power source supplied a constant DC voltage of maximum 5 kV and electric current up to 300 mA. Spectrometer Jobin Yvon TRIAX 550 with CCD detector was used during the experiments in order to measure overview spectra within the range from 200 to 900 nm as well as OH molecular spectra and Hß line spectra. All spectra were scanned in both discharge polarities, i.e. at the cathode and the anode part of reactor. The basic parameters of the discharge plasma were calculated from the spectra, that means rotational and electron temperature and electron density. Another part of experiment consisted of measurements by the ICCD camera iStar 734. Two types of reactors were used. The first one was the same as the reactor for the measurements by the optical emission spectroscopy. The second one was also made of polycarbonate, but the volume of conductive solution was 110 ml, only. HV electrodes made of stainless steel were placed in this reactor. Ceramic diaphragm (Shapal-MTM) was used in both reactors. Diaphragms had different thickness and diameter of holes. ICCD camera acquired photographs with details of processes of the bubbles generation and discharge operation (propagation of plasma channels), depending on solution conductivity, dimensions of the diaphragm, and with respect to the electrode part of the reactor.