Darbe tiriamos magnetroniniu plazminiu (MP) būdu suformuotų Mg – Al – Zr lydinių morfologinės, korozinės ir puslaidininkinės savybės. Magnetroninio plazminio dulkinimo metodu buvo suformuotos 5Mg-Al-95Zr, 33Mg-Al-67Zr, 29Mg-Al-71Zr, 24Mg-Al-76Zr, 8Mg-Al-90Zr dangos ant stiklo paviršiaus. Atominės jėgos mikroskopo (AJM) metodu nustatyta, kad magnetroniniu plazminiu būdu suformuotos Mg – Al – Zr lydinių dangos charakterizuojamos mažesniais kristalitų dydžiais ir tolygesne mikrostruktūra. Fotoelektrocheminiais ir elektrocheminio impedanso spektroskopijos metodais ištirta lydinių korozinė elgsena 0,1 M (NH4)3BO3 + 0,1 M NaCl ( pH = 8,5) tirpale. Mott – Shottky analizės metodu nustatytas puslaidininkinių paviršiaus sluoksnių laidumo pobūdis: 5Mg-Al-95Zr, 33Mg-Al-67Zr, 29Mg-Al-71Zr, 24Mg-Al-76Zr, 8Mg-Al-90Zr dangų atveju jis donorinis (n – tipo). Aptartos Mott – Shottky metodo taikymo magnetroninėms dangoms tirti galimybės. / The aim of present work was to study corrosion properties of magnetron sputtered Mg – Al – Zr alloys and characterise semiconductor properties of the surface layers developed during corrosion. Atomic force microscopy (AFM) demonstrated, that sputtered alloys had a smaller grain size and a smoother surface. Fotocorrosion and electrochemical behaviour of tha alloys was studied in 0,1 M (NH4)3BO3 + 0,1 M NaCl ( pH = 8,5) solution. The Mott – Schottky plots of 5Mg-Al-95Zr, 33Mg-Al-67Zr, 29Mg-Al-71Zr, 24Mg-Al-76Zr, 8Mg-Al-90Zr electrodes showed a linear relationship between modified capacitance (C-2) on applied potential. It was concluded n – type semiconductivity for the layers on 5Mg-Al-95Zr, 33Mg-Al-67Zr, 29Mg-Al-71Zr, 24Mg-Al-76Zr, 8Mg-Al-90Zr alloys.

Disertacijos tikslas buvo nustatyti fizikines priežastis, ribojančias dielektrinių optinių dangų spektrinius parametrus bei jų atsparumą lazerio spinduliuotei ir pateikti įvairių jų gamybos etapų – optinių pagrindukų paruošimo dengimo procesui, optinių dangų struktūros bei dengimo technologijų optimizavimo rekomendacijas optinių komponentų gamintojams. Šiame darbe buvo atlikta komerciškai poliruotų kvarco pagrindukų visapusiška paviršiaus analize, kuri parodė, kad paviršiuje esama poliravimo medžiagų liekanų įstrigusių įvairiuose rėžiuose bei mikrotrūkiuose ir “paslėptų” po taip vadinamu Bilbio sluoksniu. Siekiant nuėsdinti šį sluoksnį ir pašalinti poliravimo medžiagų liekanas, buvo sukurta cheminio ėsdinimo HF/HNO3 tirpale metodika. Nustatyta, kad ėsdintų kvarco pagrindukų pažaidos lazerio spinduliuotei slenkstis padidėjo apie 4 kartus. Šiame darbe didelis dėmesys buvo skiriamas naujų optinių dangų modelių paieškai ir dangų formavimui, naudojant ZrO2/SiO2 medžiagų mišinius. Panaudojant metalų oksidų mišinių sluoksnius, buvo suformuotos didelio atsparumo skaidrinančios dangos ant netiesinių LBO kristalų bei didelio atspindžio periodiškai kintančio lūžio rodiklio optinės dangos ant kvarco pagrindukų. Šiame darbe buvo pasirinktas magnetroninio dulkinimo technologijos, kuri yra santykinai nauja optinių dangų industrijoje, optimizavimas. Pirma kartą pademonstruota reaktyvaus magnetroninio dulkinimo proceso valdymas, panaudojant kombinuotą reaktyviųjų dujų jutiklį. Jo pagalba buvo... [toliau žr. visą tekstą] / The main aim of this dissertation was to identify physical causes that limit optical component‘s spectral properties and resistance to laser radiation as well as to optimize the final substrate preparation procedure and coating deposition technology. In this work we report an experimental investigation of subsurface damage (SSD) in conventionally polished fused silica (FS) substrates, which are widely used in laser applications and directly influence performances of optical elements. Subsurface damages are defined as residual digs and scratches, some of which are filled with polishing slurry and covered with so-called Bielby layer (polished layer). Acid etching procedure of FS substrates was developed, which allows removing polished layer and eliminating SSD. Different durations of acid etching have been used to study laser induces damage threshold (LIDT) of FS substrates. These experiments revealed that the optimal etching time is ~1 min for a given acid concentration. LIDT of etched FS samples increased ~4 times. The LIDT in LiB3O5 (LBO) crystals coated with different types of (single AR@355 nm and triple AR@355+532+1064 nm wavelength) anti-reflective coatings was also investigated. All these coatings were produced of different oxide materials (ZrO2, Al2O3, and SiO2) and ZrO2-SiO2 mixtures by using the ion beam sputtering (IBS) deposition technique. Also, we present explorations of reactive magnetron sputtering technology for deposition of ZrO2 and Nb2O5/SiO2 mixture thin... [to full text]

The main aim of this dissertation was to identify physical causes that limit optical component‘s spectral properties and resistance to laser radiation as well as to optimize the final substrate preparation procedure and coating deposition technology. In this work we report an experimental investigation of subsurface damage (SSD) in conventionally polished fused silica (FS) substrates, which are widely used in laser applications and directly influence performances of optical elements. Subsurface damages are defined as residual digs and scratches, some of which are filled with polishing slurry and covered with so-called Bielby layer (polished layer). Acid etching procedure of FS substrates was developed, which allows removing polished layer and eliminating SSD. Different durations of acid etching have been used to study laser induces damage threshold (LIDT) of FS substrates. These experiments revealed that the optimal etching time is ~1 min for a given acid concentration. LIDT of etched FS samples increased ~4 times. The LIDT in LiB3O5 (LBO) crystals coated with different types of (single AR@355 nm and triple AR@355+532+1064 nm wavelength) anti-reflective coatings was also investigated. All these coatings were produced of different oxide materials (ZrO2, Al2O3, and SiO2) and ZrO2-SiO2 mixtures by using the ion beam sputtering (IBS) deposition technique. Also, we present explorations of reactive magnetron sputtering technology for deposition of ZrO2 and Nb2O5/SiO2 mixture thin... [to full text] / Disertacijos tikslas buvo nustatyti fizikines priežastis, ribojančias dielektrinių optinių dangų spektrinius parametrus bei jų atsparumą lazerio spinduliuotei ir pateikti įvairių jų gamybos etapų – optinių pagrindukų paruošimo dengimo procesui, optinių dangų struktūros bei dengimo technologijų optimizavimo rekomendacijas optinių komponentų gamintojams. Šiame darbe buvo atlikta komerciškai poliruotų kvarco pagrindukų visapusiška paviršiaus analize, kuri parodė, kad paviršiuje esama poliravimo medžiagų liekanų įstrigusių įvairiuose rėžiuose bei mikrotrūkiuose ir “paslėptų” po taip vadinamu Bilbio sluoksniu. Siekiant nuėsdinti šį sluoksnį ir pašalinti poliravimo medžiagų liekanas, buvo sukurta cheminio ėsdinimo HF/HNO3 tirpale metodika. Nustatyta, kad ėsdintų kvarco pagrindukų pažaidos lazerio spinduliuotei slenkstis padidėjo apie 4 kartus. Šiame darbe didelis dėmesys buvo skiriamas naujų optinių dangų modelių paieškai ir dangų formavimui, naudojant ZrO2/SiO2 medžiagų mišinius. Panaudojant metalų oksidų mišinių sluoksnius, buvo suformuotos didelio atsparumo skaidrinančios dangos ant netiesinių LBO kristalų bei didelio atspindžio periodiškai kintančio lūžio rodiklio optinės dangos ant kvarco pagrindukų. Šiame darbe buvo pasirinktas magnetroninio dulkinimo technologijos, kuri yra santykinai nauja optinių dangų industrijoje, optimizavimas. Pirma kartą pademonstruota reaktyvaus magnetroninio dulkinimo proceso valdymas, panaudojant kombinuotą reaktyviųjų dujų jutiklį. Jo pagalba buvo... [toliau žr. visą tekstą]