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Hochauflösender mikromechanischer Sensor zur Erfassung von OberflächenprofilenKotarsky, Ulf 13 February 2005 (has links) (PDF)
In der vorliegenden Arbeit wird die Entwicklung von ausschließlich elektrostatisch
arbeitenden Sensor-Aktor-Arrays zur Oberflächenprofilbestimmung an Mikroteilen
beschrieben. Ein wesentliches Merkmal der Strukturen ist ihr großer Eigenzustellbereich
von bis zu 20 Mikrometer. Die Auswertung atomarer Kräfte ermöglicht Wegauflösungen
im Nanometerbereich.
Auf Grund der geringen Abmessungen durch die mikromechanische Fertigung des
Sensorelements und der integrierten Sensor-Aktorfunktion sind Anordnungen als
Zeilenarray möglich.
Die Entwicklung richtet sich auf Strukturen, welche in klassischer
Oberflächentechnologie gefertigt werden können. Durchgeführte experimentelle Tests
wurden mit Sensoren in Silizium-bulk-Mikromechanik (SCREAM) realisiert.
Der Schwerpunkt der Arbeit behandelt die Charakterisierung der Sensorelemente und
damit verbundene Layoutverbesserungen, wie das Einbringen von Feldstoppern und die
Nutzbarkeit des Sensors zur Profilbestimmung von Oberflächen unter Beachtung
industrieller Anforderungen.
Vorteile des Einsatzes eines solchen Sensor-Aktor-Arrays liegen in der Miniaturisierung
und dem vergleichsweise großen Eigenzustellbereich jedes einzelnen Sensors. Dadurch
ist es möglich, technische Oberflächen, welche im Eigenzustellbereich des Sensorarrays
liegen, ohne das Nachregeln einer übergeordneten Positioniereinheit im Profil zu
bestimmen. Es wird gezeigt, wie die angewandte kapazitive Wirkungsweise des Sensors
mit den sehr kleinen Nutzkapazitäten im Beisein von großen Parasitärkapazitäten zur
Signalauswertung genutzt werden kann.
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Hochauflösender mikromechanischer Sensor zur Erfassung von OberflächenprofilenKotarsky, Ulf 26 November 2004 (has links)
In der vorliegenden Arbeit wird die Entwicklung von ausschließlich elektrostatisch
arbeitenden Sensor-Aktor-Arrays zur Oberflächenprofilbestimmung an Mikroteilen
beschrieben. Ein wesentliches Merkmal der Strukturen ist ihr großer Eigenzustellbereich
von bis zu 20 Mikrometer. Die Auswertung atomarer Kräfte ermöglicht Wegauflösungen
im Nanometerbereich.
Auf Grund der geringen Abmessungen durch die mikromechanische Fertigung des
Sensorelements und der integrierten Sensor-Aktorfunktion sind Anordnungen als
Zeilenarray möglich.
Die Entwicklung richtet sich auf Strukturen, welche in klassischer
Oberflächentechnologie gefertigt werden können. Durchgeführte experimentelle Tests
wurden mit Sensoren in Silizium-bulk-Mikromechanik (SCREAM) realisiert.
Der Schwerpunkt der Arbeit behandelt die Charakterisierung der Sensorelemente und
damit verbundene Layoutverbesserungen, wie das Einbringen von Feldstoppern und die
Nutzbarkeit des Sensors zur Profilbestimmung von Oberflächen unter Beachtung
industrieller Anforderungen.
Vorteile des Einsatzes eines solchen Sensor-Aktor-Arrays liegen in der Miniaturisierung
und dem vergleichsweise großen Eigenzustellbereich jedes einzelnen Sensors. Dadurch
ist es möglich, technische Oberflächen, welche im Eigenzustellbereich des Sensorarrays
liegen, ohne das Nachregeln einer übergeordneten Positioniereinheit im Profil zu
bestimmen. Es wird gezeigt, wie die angewandte kapazitive Wirkungsweise des Sensors
mit den sehr kleinen Nutzkapazitäten im Beisein von großen Parasitärkapazitäten zur
Signalauswertung genutzt werden kann.
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Applications of resonant hard x-ray diffraction for characterization of structural modifications in crystals / Anwendungen resonanter Beugung harter Röntgenstrahlen zur Beschreibung struktueller Änderungen in KristallenRichter, Carsten 08 March 2018 (has links) (PDF)
Die Arbeit behandelt die vielseitigen Möglichkeiten im Bereich der Kristallstrukturanalyse mit Röntgenstrahlung, welche sich zusätzlich bei resonanter Anregung von Elektronenübergängen ergeben. Existierende resonante Methoden aus diesem Bereich werden im materialwissenschaftlichen Kontext neu dargelegt und ausgebaut. Zudem werden neue Methoden zur Strukturverfeinerung vorgestellt, welche darauf zielen, mithilfe resonanter Anregung kleine Abweichungen von der Idealstruktur oder aber Phasenumwandlungen zu beschreiben. Im Vordergrund steht dabei die hier erstmals ausgearbeitete Methode der Unterdrückung von Beugungsintensität durch Variation der atomaren Streufaktoren über gezieltes Einstellen der Röntgenenergie. Dies ist stark abhängig von internen Strukturparametern und ermöglichte so eine pikometergenaue Bestimmung von Atompositionen in einer neuen, polaren Oberflächenschicht des Strontiumtitanats. Weitere Anwendungen auf verschiedene Klassen kristalliner Materialien werden vorgestellt und basieren auf unterschiedlichen Aspekten resonanter Beugung wie zum Beispiel verbotenen Reflexen.
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Applications of resonant hard x-ray diffraction for characterization of structural modifications in crystalsRichter, Carsten 04 December 2017 (has links)
Die Arbeit behandelt die vielseitigen Möglichkeiten im Bereich der Kristallstrukturanalyse mit Röntgenstrahlung, welche sich zusätzlich bei resonanter Anregung von Elektronenübergängen ergeben. Existierende resonante Methoden aus diesem Bereich werden im materialwissenschaftlichen Kontext neu dargelegt und ausgebaut. Zudem werden neue Methoden zur Strukturverfeinerung vorgestellt, welche darauf zielen, mithilfe resonanter Anregung kleine Abweichungen von der Idealstruktur oder aber Phasenumwandlungen zu beschreiben. Im Vordergrund steht dabei die hier erstmals ausgearbeitete Methode der Unterdrückung von Beugungsintensität durch Variation der atomaren Streufaktoren über gezieltes Einstellen der Röntgenenergie. Dies ist stark abhängig von internen Strukturparametern und ermöglichte so eine pikometergenaue Bestimmung von Atompositionen in einer neuen, polaren Oberflächenschicht des Strontiumtitanats. Weitere Anwendungen auf verschiedene Klassen kristalliner Materialien werden vorgestellt und basieren auf unterschiedlichen Aspekten resonanter Beugung wie zum Beispiel verbotenen Reflexen.
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