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分子線エピタキシー法を用いたフォトニック結晶レーザ作製法の開発と空孔立体形状の検討

京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第19718号 / 工博第4173号 / 新制||工||1644(附属図書館) / 32754 / 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 / (主査)教授 野田 進, 教授 藤田 静雄, 教授 川上 養一 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/215544
Date23 March 2016
Creators西本, 昌哉
Contributors野田, 進, 藤田, 静雄, 川上, 養一, Nishimoto, Masaya, ニシモト, マサヤ
Publisher京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageJapanese
Detected LanguageJapanese
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Formatapplication/pdf
Rights学位規則第9条第2項により要約公開, 許諾条件により本文は2018-09-01に公開

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