分子線エピタキシー法を用いたフォトニック結晶レーザ作製法の開発と空孔立体形状の検討

Description

京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第19718号 / 工博第4173号 / 新制||工||1644(附属図書館) / 32754 / 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 / (主査)教授 野田 進, 教授 藤田 静雄, 教授 川上 養一 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

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1. http://hdl.handle.net/2433/215544
2. 14301甲第19718号
3. 10.14989/doctor.k19718
4. 14301

Tags

半導体レーザ

フォトニック結晶

分子線エピタキシー法

500

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/215544
Date	23 March 2016
Creators	西本, 昌哉
Contributors	野田, 進, 藤田, 静雄, 川上, 養一, Nishimoto, Masaya, ニシモト, マサヤ
Publisher	京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source Sets	Kyoto University
Language	Japanese
Detected Language	Japanese
Type	doctoral thesis, Thesis or Dissertation
Format	application/pdf
Rights	学位規則第9条第2項により要約公開, 許諾条件により本文は2018-09-01に公開