イオンビーム照射中に生じる点欠陥の自己緩和に関する研究

Description

京都大学 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第24229号 / 工博第5057号 / 新制||工||1789(附属図書館) / 京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻 / (主査)教授 斉藤 学, 准教授 土田 秀次, 教授 木野村 淳 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

Links & Downloads

1. http://hdl.handle.net/2433/277372
2. 10.14989/doctor.k24229
3. 14301

Tags

イオンビーム

単結晶シリコン薄膜

多結晶アルミニウム薄膜

自立薄膜の照射誘起変形

可逆変形

欠陥の自己緩和

500

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/277372
Date	26 September 2022
Creators	南川, 英輝
Contributors	Minagawa, Hideaki, ミナガワ, ヒデアキ
Publisher	Kyoto University, 京都大学
Source Sets	Kyoto University
Language	Japanese
Detected Language	Japanese
Type	doctoral thesis, Thesis or Dissertation