TEM-Untersuchungen an Silicidschichten

Description

In dieser Arbeit wurden Ni-Si-Ga-Schichten mit Hilfe der Transmissionselektronenmikroskopie charakterisiert.

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1. urn:nbn:de:swb:ch1-200501612
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3. https://monarch.qucosa.de/api/qucosa%3A18410/attachment/ATT-0/
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Tags

info:eu-repo/classification/ddc/530

ddc:530

Elektronenbeugung

Elektronenmikroskopie

Epitaxie

Silicide

Durchstrahlungselektronenmikroskopie

Nickeldisilicid

TEM

dünne Schichten

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa:de:qucosa:18410
Date	11 October 2005
Creators	Schubert, Andreas
Contributors	Technische Universität Chemnitz
Source Sets	Hochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
Language	German
Detected Language	German
Type	doc-type:masterThesis, info:eu-repo/semantics/masterThesis, doc-type:Text
Rights	info:eu-repo/semantics/openAccess