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Die SOI-Scheibe der Mikroelektronik als neue Prozessbasis für nanostrukturierte Silizium-Membranmasken

Stuttgart, Universiẗat, Diss., 2003.

Identiferoai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/76443575
Date January 2003
CreatorsButschke, Jörg.
Publisher[S.l. : s.n.],
Source SetsOCLC
LanguageGerman
Detected LanguageGerman

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