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Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas / フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ-表面相互作用の数値解析

Kyoto University (京都大学) / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第17064号 / 工博第3613号 / 新制||工||1548(附属図書館) / 29784 / 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 / (主査)教授 斧 髙一, 教授 稲室 隆二, 教授 青木 一生 / 学位規則第4条第1項該当

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/158076
Date23 May 2012
CreatorsFukumoto, Hiroshi
Contributors斧, 髙一, 稲室, 隆二, 青木, 一生, 福本, 浩志, フクモト, ヒロシ
Publisher京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
TypeDFAM, Thesis or Dissertation
Formatapplication/pdf

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