プラズマプロセシング用SiH4のラジカル非発光種に関する研究

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科学研究費補助金 研究種目:一般研究(B) 課題番号:17520427 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1985-1986年度

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1. http://hdl.handle.net/2237/12922

Tags

LIF法

電子衝突

ラジカル非発光種

Lifetime

Electron Collision

Non-Emissive Radical

Plasma Processing

生成断面積

寿命

Emission Cross Section

Si【H_4】

プラズマプロセシング

発光断面積

<SiH_4>

Level Excitation Cross Section

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:NAGOYA/oai:ir.nul.nagoya-u.ac.jp:2237/12922
Date	03 1900
Creators	後藤, 俊夫, 稲葉, 成基, 羽根, 一博, 河野, 明広
Source Sets	Nagoya University
Language	Japanese
Detected Language	Japanese
Type	Research Paper