Die SOI-Scheibe der Mikroelektronik als neue Prozessbasis für nanostrukturierte Silizium-Membranmasken /

Description

Stuttgart, Universiẗat, Diss., 2003.

Links & Downloads

1. http://www.bsz-bw.de/cgi-bin/xvms.cgi?SWB10399757

Tags

Maske <Halbleitertechnologie>

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/76492417
Date	January 2003
Creators	Butschke, Jörg.
Publisher	[S.l. : s.n.],
Source Sets	OCLC
Language	German
Detected Language	German