Model Analysis of Plasma-Surface Interactions during Silicon Oxide Etching in Fluorocarbon Plasmas / フルオロカーボンプラズマによる酸化シリコンエッチングにおけるプラズマ－表面相互作用の数値解析

Description

Kyoto University (京都大学) / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第17064号 / 工博第3613号 / 新制||工||1548(附属図書館) / 29784 / 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 / (主査)教授 斧 髙一, 教授 稲室 隆二, 教授 青木 一生 / 学位規則第4条第1項該当

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1. http://hdl.handle.net/2433/158076
2. 10.14989/doctor.k17064

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Fluorocarbon plasmas

Inductively coupled plasma

Plasma etching profile

Charging

500

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/158076
Date	23 May 2012
Creators	Fukumoto, Hiroshi
Contributors	斧, 髙一, 稲室, 隆二, 青木, 一生, 福本, 浩志, フクモト, ヒロシ
Publisher	京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source Sets	Kyoto University
Language	English
Detected Language	English
Type	DFAM, Thesis or Dissertation
Format	application/pdf