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Transparent rectifying contacts on wide-band gap oxide semiconductors

Die vorliegenden Arbeit befasst sich mit der Herstellung und Charakterisierung von transparenten Metall-Halbleiter- Feldeffekttransistoren. Dazu werden im ersten Kapitel
transparente gleichrichtende Kontakte, basierend auf dem Konzept von Metalloxidkontakten, hergestellt und im Hinblick auf chemische Zusammensetzung des Kontaktmaterials, Barriereninhomogenität und Kompatibilität mit amorphen Halbleitern untersucht. Außerdem wird die
Anwendbarkeit der Kontakte als UV-Sensor studiert. Im zweiten Kapitel werden transparente leitfähige Oxide vorgestellt und insbesondere deren optische und elektrische Eigenschaften
in Abhängigkeit von den Herstellungsbedingungen studiert. Das dritte Kapitel beinhaltet Untersuchungen zu transparenten Feldeffektransistoren, die auf den im ersten Kapitel untersuchten transparenten gleichrichtenden Kontakten basieren (TMESFETs). Insbesondere die elektrischen Stabilität der Bauelemente hinsichtlich Beleuchtung, erhöhten Temperaturen und Spannungsstress wird untersucht. Auch die Langzeitstabilität, Reproduzierbarkeit und der
Effekt gepulster Spannungen wird betrachtet. Weiterhin wird die Verwendung amorpher Halbleiter im Kanal und damit auch die Herstellung flexibler Transistoren auf Folie demonstriert.
Zuletzt werden die TMESFETs integriert und als Inverterschaltkreise aufgebaut und untersucht. Außerdem wird die Eignung der Transistoren zur Messung von Aktionspotentialen von Nervenzellen studiert.

Identiferoai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa.de:bsz:15-qucosa-102799
Date21 January 2013
CreatorsLajn, Alexander
ContributorsUniversität Leipzig, Halbleiterphysik, Prof. Dr. Marius Grundmann, Prof. Dr. Marius Grundmann, Prof. Dr. Thomas Riedl
PublisherUniversitätsbibliothek Leipzig
Source SetsHochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
LanguageEnglish
Detected LanguageGerman
Typedoc-type:doctoralThesis
Formatapplication/pdf

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