Durch eine selektive Bedampfung von Kontaktbauteilen kann der Edelmetallverbrauch gesenkt werden.
Das Molekularstrahlverfahren wird bezüglich seiner Eignung zur selektiven Beschichtung
untersucht. Die wichtigsten Quellenparameter (Verdampfungsrate dN/dt und Halbwertsbreite H) werden
abgeschätzt und mit der experimentell ermittelten Schichtdickenverteilung verglichen.
Identifer | oai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa.de:bsz:ch1-201000142 |
Date | 03 March 2010 |
Creators | Kupfer, Hartmut, Hecht, Günther |
Contributors | TU Chemnitz, Fakultät für Naturwissenschaften |
Publisher | Universitätsbibliothek Chemnitz |
Source Sets | Hochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden |
Language | deu |
Detected Language | German |
Type | doc-type:article |
Format | application/pdf, text/plain, application/zip |
Source | Wissenschaftliche Zeitschrift der TH Karl-Marx-Stadt. – 22 (1980) 7, S. 687 - 693 |
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