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Selektive Bedampfung mittels Molekularstrahlen

Durch eine selektive Bedampfung von Kontaktbauteilen kann der Edelmetallverbrauch gesenkt werden.
Das Molekularstrahlverfahren wird bezüglich seiner Eignung zur selektiven Beschichtung
untersucht. Die wichtigsten Quellenparameter (Verdampfungsrate dN/dt und Halbwertsbreite H) werden
abgeschätzt und mit der experimentell ermittelten Schichtdickenverteilung verglichen.

Identiferoai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa.de:bsz:ch1-201000142
Date03 March 2010
CreatorsKupfer, Hartmut, Hecht, Günther
ContributorsTU Chemnitz, Fakultät für Naturwissenschaften
PublisherUniversitätsbibliothek Chemnitz
Source SetsHochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
Languagedeu
Detected LanguageGerman
Typedoc-type:article
Formatapplication/pdf, text/plain, application/zip
SourceWissenschaftliche Zeitschrift der TH Karl-Marx-Stadt. – 22 (1980) 7, S. 687 - 693

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