Untersuchung von Ansätzen zur Optimierung des Beschichtungspfades beim Ionenstrahlsputtern eines Substrats mit räumlichem Tiefenprofil

Description

Die Arbeit thematisiert die Optimierung von Beschichtungsvorgängen mithilfe der Ionenstrahlsputterdeposition hinsichtlich der Homogenität von Substraten mit Tiefenprofil. Dazu wurde eine Simulationssoftware entwickelt und hinsichtlich der Problemstellung an mehreren Beispielen getestet.

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1. urn:nbn:de:bsz:ch1-qucosa2-748026
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ddc:530

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa:de:qucosa:74802
Date	06 May 2021
Creators	Ullmann, Florian
Contributors	Lazarevic, Florian, Thränhardt, Angela, Schuster, Jörg, Technische Universität Chemnitz
Source Sets	Hochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
Language	German
Detected Language	German
Type	info:eu-repo/semantics/publishedVersion, doc-type:bachelorThesis, info:eu-repo/semantics/bachelorThesis, doc-type:Text
Rights	info:eu-repo/semantics/openAccess