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Electrochemical deposition of metal on microporous silicon electrodes influenced by hydration structures of solutes and electrode surfaces / 溶質と電極表面の水和構造にもとづくミクロ多孔質シリコン電極内の金属析出制御

京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第18999号 / 工博第4041号 / 新制||工||1622(附属図書館) / 31950 / 京都大学大学院工学研究科物質エネルギー化学専攻 / (主査)教授 作花 哲夫, 教授 安部 武志, 教授 邑瀬 邦明 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/199323
Date23 March 2015
CreatorsKoda, Ryo
Contributors作花, 哲夫, 安部, 武志, 邑瀬, 邦明, 幸田, 吏央, コウダ, リョウ
Publisher京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Formatapplication/pdf

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