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Crystalline properties of gallium oxide thin films epitaxially grown by mist chemical vapor deposition / ミスト化学気相法によるエピタキシャル成長酸化ガリウム薄膜の結晶特性に関する研究

京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第19721号 / 工博第4176号 / 新制||工||1644(附属図書館) / 32757 / 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 / (主査)教授 藤田 静雄, 教授 髙岡 義寛, 准教授 須田 淳 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/215547
Date23 March 2016
CreatorsLee, Sam-Dong
Contributors藤田, 静雄, 髙岡, 義寛, 須田, 淳, 李, 三東, イ, サムドン
Publisher京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Formatapplication/pdf
Rights許諾条件により本文は2017-01-01に公開

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