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Efeito de subst?ncias h?micas extra?das da mat?ria org?nica de turfeiras e de composto org?nico de res?duos da ind?stria t?xtil na reten??o de ?gua

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Previous issue date: 2013 / A mat?ria org?nica do solo (MOS) relaciona-se intimamente com a capacidade de reten??o de ?gua pelo solo. As turfeiras e os compostos org?nicos s?o materiais ricos em MOS. O objetivo do trabalho foi quantificar a capacidade de reten??o de ?gua da humina (H) e dos ?cidos h?micos (AH) da mat?ria org?nica (MO) de turfeiras e de composto org?nico proveniente de res?duos da ind?stria t?xtil, puros e em mistura com areia. O fracionamento dos materiais seguiu uma adapta??o da metodologia da Internacional Humic Substances Society. Obtiveram-se os substratos advindos das seguintes propor??es de subst?ncias h?micas (SH), provenientes de turfeira e de composto, e areia (fina e m?dia): 0 % SH e 100 % de areia fina (AF) e m?dia (AM); 100 % SH e 0 % de areia AF ou AM; 75 % SH e 25 % AF ou AM; 50 % SH e 50 % AF ou AM; 25 % SH e 75 % AF ou AM. Com o aux?lio do extrator de Richards foram determinados os teores de ?gua retida nas tens?es de 0 (CMRA), 10, 100, 300, 500, 700 kPa, para todos os substratos. Foi feita a an?lise de vari?ncia. N?o se observou diferen?as estat?sticas entre substratos com 100 % de AF e AM. Analisando-se as diferen?as de reten??o de ?gua dos substratos com 100% de AH e da H, e as diferen?as de origem (composto e turfeira), encontrou-se as maiores reten??es para os substratos com AH e para os substratos com SH provenientes de turfeira. A humina ? a SH que predomina amplamente no composto de res?duos de industria t?xtil e de turfeira. A maior reten??o de ?gua, na CMRA e nas tens?es 10, 100, 300, 500 e 700 kPa, foi obtida pelo substrato com 100% de AH em rela??o aos substratos com 100% de H. Os substratos com diferentes propor??es de AH e areia apresentaram reten??o de ?gua semelhante aos substratos com diferentes propor??es de H e areia. O substrato que obteve as maiores reten??es de ?gua foi 75 % de SH e 25 % de AF. Os AH e a H apresentam hidrofilia e tem potencial para a fabrica??o do hidrorretentor org?nico sustent?vel. Pela modelagem de reten??o de ?gua, a perda de ?gua pelos substratos ? base de H ? bem mais evidente na CMRA. Para os substratos ? base de AH a perda de ?gua com o aumento da press?o aplicada se torna mais evidente nas propor??es de 75 % de SH e principalmente, na CMRA. / Disserta??o (Mestrado) ? Programa de P?s-Gradua??o em Ci?ncia Florestal, Universidade Federal dos Vales do Jequitinhonha e Mucuri, 2013.

Identiferoai:union.ndltd.org:IBICT/oai:acervo.ufvjm.edu.br/jspui:1/490
Date08 March 2013
CreatorsFreire, Rafaela Dias de Arag?o
ContributorsSilva, Alexandre Christ?faro, Fernandes, Jos? Sebasti?o Cunha, Rocha, Wellington Willian, Ferreira, Mozart Martins, Universidade Federal dos Vales do Jequitinhonha e Mucuri (UFVJM), Silva, Alexandre Christ?faro
PublisherUFVJM
Source SetsIBICT Brazilian ETDs
LanguagePortuguese
Detected LanguagePortuguese
Typeinfo:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Sourcereponame:Repositório Institucional da UFVJM, instname:Universidade Federal dos Vales do Jequitinhonha e Mucuri, instacron:UFVJM
RightsA concess?o da licen?a deste item refere-se ao ? termo de autoriza??o impresso assinado pelo autor, assim como na licen?a Creative Commons, com as seguintes condi??es: Na qualidade de titular dos direitos de autor da publica??o, autorizo a Universidade Federal dos Vales do Jequitinhonha e Mucuri e o IBICT a disponibilizar por meio de seus reposit?rios, sem ressarcimento dos direitos autorais, de acordo com a Lei n? 9610/98, o texto integral da obra disponibilizada, conforme permiss?es assinaladas, para fins de leitura, impress?o e/ou download, a t?tulo de divulga??o da produ??o cient?fica brasileira, e preserva??o, a partir desta data., info:eu-repo/semantics/openAccess

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