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Selektive Bedampfung mittels Molekularstrahlen

Durch eine selektive Bedampfung von Kontaktbauteilen kann der Edelmetallverbrauch gesenkt werden.
Das Molekularstrahlverfahren wird bezüglich seiner Eignung zur selektiven Beschichtung
untersucht. Die wichtigsten Quellenparameter (Verdampfungsrate dN/dt und Halbwertsbreite H) werden
abgeschätzt und mit der experimentell ermittelten Schichtdickenverteilung verglichen.

Identiferoai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa:de:qucosa:19267
Date03 March 2010
CreatorsKupfer, Hartmut, Hecht, Günther
PublisherTechnische Universität Chemnitz
Source SetsHochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
LanguageGerman
Detected LanguageGerman
Typedoc-type:article, info:eu-repo/semantics/article, doc-type:Text
SourceWissenschaftliche Zeitschrift der TH Karl-Marx-Stadt. – 22 (1980) 7, S. 687 - 693
Rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess
Relation0372-7610

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