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Area-selective electroless deposition of gold nanostructures on silicon / シリコン表面での局所選択的無電解金ナノ構造成長

京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第19724号 / 工博第4179号 / 新制||工||1644(附属図書館) / 32760 / 京都大学大学院工学研究科材料化学専攻 / (主査)教授 平尾 一之, 教授 三浦 清貴, 教授 田中 勝久 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/215550
Date23 March 2016
CreatorsItasaka, Hiroki
Contributors平尾, 一之, 三浦, 清貴, 田中, 勝久, 板坂, 浩樹, イタサカ, ヒロキ
Publisher京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Formatapplication/pdf
Rights許諾条件により本文は2017-03-01に公開

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