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TEM-Untersuchungen an Silicidschichten

In dieser Arbeit wurden Ni-Si-Ga-Schichten mit Hilfe der Transmissionselektronenmikroskopie charakterisiert.

Identiferoai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa.de:swb:ch1-200501612
Date01 December 2005
CreatorsSchubert, Andreas
ContributorsTU Chemnitz, Fakultät für Naturwissenschaften
PublisherUniversitätsbibliothek Chemnitz
Source SetsHochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
Languagedeu
Detected LanguageGerman
Typedoc-type:masterThesis
Formatapplication/pdf, text/plain, application/zip

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