Processos termicos rapidos RTO / RTA para fabricação de dispositivos MOS / Rapid thermal process RTO / RTA for MOS devices fabrication

Description

Orientador: Jose Alexandre Diniz / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-08-08T23:44:14Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 2005 / Mestrado / Microeletronica e Optoeletronica / Mestre em Engenharia Elétrica

Links & Downloads

1. (Broch.)
2. CAVARSAN, Fabio Aparecido. Processos termicos rapidos RTO / RTA para fabricação de dispositivos MOS. 2005. 103f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/259289>. Acesso em: 8 ago. 2018.
3. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/259289

Tags

Dielétricos

Filmes finos - Propriedades elétricas

Semicondutores amorfos

Semicondutores - Difusão

Filmes semicondutores

Transistores de efeito de campo

Oxide

Ativation

RTO

RTA

Annealing

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.unicamp.br:REPOSIP/259289
Date	06 October 2005
Creators	Cavarsan, Fabio Aparecido
Contributors	UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS, Diniz, José Alexandre, 1964-, Swart, Jacabus Willibrordus, Tatsch, Peter Jürgen, Hayashi, Marcelo Assaoka
Publisher	[s.n.], Universidade Estadual de Campinas. Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica
Source Sets	IBICT Brazilian ETDs
Language	Portuguese
Detected Language	Portuguese
Type	info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis
Format	103f. : il., application/pdf
Source	reponame:Repositório Institucional da Unicamp, instname:Universidade Estadual de Campinas, instacron:UNICAMP
Rights	info:eu-repo/semantics/openAccess