ECR-Plasmadiagnostik im System Ar-H2-N2-TMS und Charakterisierung der entstehenden SiCxNy: H-Schichten

Description

Chemnitz, Techn. Universiẗat, Diss., 2002. / Dateiformat: PDF.

Links & Downloads

1. http://deposit.ddb.de/cgi-bin/dokserv?idn=968781578
2. http://archiv.tu-chemnitz.de/pub/2002/0129/index.html

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ECR-Beschichten

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:OCLC/oai:xtcat.oclc.org:OCLCNo/76640893
Date	January 2002
Creators	Dani, Ines.
Publisher	[S.l. : s.n.],
Source Sets	OCLC
Language	German
Detected Language	German
Source	LF