Étude de l'évolution thermique du dommage d'implantation dans le silicium par nanocalorimétrie

Description

Thèse numérisée par la Direction des bibliothèques de l'Université de Montréal.

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1. http://hdl.handle.net/1866/17375

Tags

Silicium

Implantation ionique

Recuit

Évolution du dommage

Nanocalorimétrie

Membranes de nitrure de silicium

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:umontreal.ca/oai:papyrus.bib.umontreal.ca:1866/17375
Date	January 2006
Creators	Karmouch, Rachid
Contributors	Schiettekatte, François
Source Sets	Université de Montréal
Language	French
Detected Language	French
Type	Thèse ou Mémoire numérique / Electronic Thesis or Dissertation