競爭是現代社會中無所不在的行為，國家或企業透過產業競爭分析、企業競爭分析，乃至市場分析及技術預測（Technological Forecast），才能知己知彼並且擬定正確的決策。對科技產業而言，若企業無法隨時掌握技術發展的趨勢，儘早投入技術研發或調整企業的經營策略。不久之後，市場便會被其他競爭對手所佔據。所幸，沒有一項技術發明是直接由發明者的腦袋直接跳到廣泛應用的境地。其間總是經過好幾個連續階段，每一個階段都使得「實用性」及「有用性」更成熟。因此若能掌握科技發展的脈絡，早期投入研發，便能維持企業的競爭優勢。 專利資訊可以用來評估與預測技術發展、規劃研發或技術發展項目、避免誤觸專利權而浪費研發資源、掌握企業發展動向及市場需求。許多企業和政府機關已經發現專利分析的重要性，並且投入大量的人力、物力來進行專利分析的工作。然而，專利的申請日和公開日之間還是存在至少18個月的時滯，若企業過渡倚賴專利資訊的分析，容易使後續的研發資源投入競爭激烈的技術紅海當中。因此若要充分掌握前瞻技術發展的脈動，基礎研究趨勢分析相對於專利趨勢分析，其重要性有過之而無不及。 在分析方法方面，現存的書目記錄以科學與技術類佔大多數，因此，以書目計量學為工具，自然成為研究「科學」技術整體發展的主流。除了傳統的計量分析之外，利用自動化的方法，挖掘大量文件中的隱含及有用知識，也是最近熱門的研究議題。對探勘技術而言，關聯分析、分群、預測等探勘技術，也漸漸成為技術預測不可或缺的工具之一。 過去曾有眾多的研究利用書目計量來分析學術論文或專利資訊，而最近幾年則陸續出現利用文字探勘來分析學術論文或專利資訊，但這樣的分析結果是片段而不完全的。本研究提出整合性的概念，同時結合計量分析（Bibliometrics）與文字探勘（Text Mining）兩種方法，分別對學術論文（Science Citation Index Expanded）與專利資訊（Derwent World Patents Index）這兩種文獻資料作分析，透過互相比較來瞭解技術發展的趨勢。除此之外，也希望透過個案分析，對本研究所提出之方法論本身，探討之間的關聯性。 在選擇個案方面，奈米科技是目前最熱門的科技產業發展方向。其中最具代表性的產業即「半導體產業」和「微機電系統產業」。蝕刻（Etching）製程與設備技術的良劣，直接影響晶圓產品良率的高低，是影響奈米科技未來發展的重要技術之一。故蝕刻技術之發展趨勢值得深入研究。 而本研究之研究結論如下： 1.技術趨勢分析在層次上宜由遠（計量分析）而近（文獻探勘），理論（論文資料）與應用（專利資料）應並重，分析結果才能互補長短。 2.科學發展與市場需求為專利技術生命週期的領先指標。 3.科學發展增加技術商業化的應用，但市場需求則強化了創新擴散的效果。 4.蝕刻技術的基礎研究目前處於成熟期，而技術發展目前處於成長期。在電子產品輕薄短小、高效能的需求下，預期蝕刻技術將持續被商業化應用。 5.蝕刻技術的領先地位，美商已逐漸被亞洲企業所取代，尤其近來南韓的半導體廠商最為積極。台灣的台積電和聯電過去已累積雄厚的技術發展基礎，惟台灣在基礎研究與產學合作方面仍待加強。