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1	High-temperature CVD silicon films for crystalline silicon thin-film solar cells Bau, Sandra. Unknown Date (has links) (PDF) University, Diss., 2003--Konstanz.
2	High-temperature CVD processes for crystalline silicon thin-film and wafer solar cells Schmich, Evelyn Karin January 2008 (has links) Zugl.: Konstanz, Univ., Diss., 2008
3	Abscheidung von ZrO 2 auf oxidischen Fasern und Platin-Iridium-Drähten Winkler, Marco, January 2007 (has links) Chemnitz, Techn. Univ., Diss., 2007.
4	Abscheidung von ZrO2 auf oxidischen Fasern und Platin-Iridium-Drähten Winkler, Marco 27 February 2007 (has links) (PDF) Systematische Untersuchungen zur Abscheidung von Zirconiumdioxid auf keramischen Fasermaterialien und einer Platin-Iridium-Legierung (PtIr20) sowie eine umfassende und vergleichende Charakterisierung der entstandenen Oxidfilme waren Gegenstand dieser Arbeit. Als Precursoren wurden Zirconium(IV)-tetra-tert.-butoxid (ZTB), Zirconium(IV)-chlorid und Sauerstoff verwendet. Für die kontinuierliche Beschichtung der oxidischen Fasern (NEXTEL-720-Multifilamentrovings) wurde ein thermisch induzierter Heißwand-CVD-Prozess (ZrCl4 + O2) entwickelt, die Abscheidung von ZrO2 auf unmodifiziertem bzw. oberflächlich oxidierten PtIr20 fand in einem statisch geführten Kaltwand-CVD-Verfahren unter Verwendung von ZTB statt. Die Charakterisierung der Zirconiumdioxidfilme erfolgte in Abhängigkeit von den Prozessparametern (z.B. Substratart, Beschichtungstemperatur, Zuggeschwindigkeit) mit Methoden wie: Infrarot- und Ramanspektroskopie (Detektion von Verunreinigungen und Phasenzusammensetzung), Röntgendiffraktometrie (Phasenanalyse, Ermittlung von Vorzugsorientierungen), Elektronenstrahlmikroanalyse (Stöchiometrie des ZrO2 und Kohlenstoffgehalt der Schichten), Rasterelektronenmikroskopie (Topologie der Filme) und Bündelzugversuch (Einfluss des ZrO2 auf die 50-%-Zugfestigkeit der Filamente). ddc:540 APCVD-Verfahren Anorganische Faser CVD-Verfahren Iridiumlegierung Langfaser MOCVD-Verfahren Platinlegierung Zirkoniumdioxid Zirkoniumorganische Verbindungen Zugfestigkeit
5	Abscheidung von ZrO2 auf oxidischen Fasern und Platin-Iridium-Drähten Winkler, Marco 11 January 2007 (has links) Systematische Untersuchungen zur Abscheidung von Zirconiumdioxid auf keramischen Fasermaterialien und einer Platin-Iridium-Legierung (PtIr20) sowie eine umfassende und vergleichende Charakterisierung der entstandenen Oxidfilme waren Gegenstand dieser Arbeit. Als Precursoren wurden Zirconium(IV)-tetra-tert.-butoxid (ZTB), Zirconium(IV)-chlorid und Sauerstoff verwendet. Für die kontinuierliche Beschichtung der oxidischen Fasern (NEXTEL-720-Multifilamentrovings) wurde ein thermisch induzierter Heißwand-CVD-Prozess (ZrCl4 + O2) entwickelt, die Abscheidung von ZrO2 auf unmodifiziertem bzw. oberflächlich oxidierten PtIr20 fand in einem statisch geführten Kaltwand-CVD-Verfahren unter Verwendung von ZTB statt. Die Charakterisierung der Zirconiumdioxidfilme erfolgte in Abhängigkeit von den Prozessparametern (z.B. Substratart, Beschichtungstemperatur, Zuggeschwindigkeit) mit Methoden wie: Infrarot- und Ramanspektroskopie (Detektion von Verunreinigungen und Phasenzusammensetzung), Röntgendiffraktometrie (Phasenanalyse, Ermittlung von Vorzugsorientierungen), Elektronenstrahlmikroanalyse (Stöchiometrie des ZrO2 und Kohlenstoffgehalt der Schichten), Rasterelektronenmikroskopie (Topologie der Filme) und Bündelzugversuch (Einfluss des ZrO2 auf die 50-%-Zugfestigkeit der Filamente). info:eu-repo/classification/ddc/540 ddc:540 APCVD-Verfahren Anorganische Faser CVD-Verfahren Iridiumlegierung Langfaser MOCVD-Verfahren Platinlegierung Zirkoniumdioxid Zirkoniumorganische Verbindungen Zugfestigkeit

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