MAGALHÃES, R. A. Eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre substrato de Pt para uso em sistemas fotovoltaicos. 2012. 77 f. Dissertação (Mestrado em Engenharia Mecânica) - Centro de Tecnologia, Universidade Federal do Ceará, Fortaleza, 2012. / Submitted by Marlene Sousa (mmarlene@ufc.br) on 2012-09-13T18:27:56Z No. of bitstreams: 1 2012_dis_ramagalhaes.pdf: 3833484 bytes, checksum: 6220126ec2c30ba4d281c49de4ec6207 (MD5) / Approved for entry into archive by Marlene Sousa(mmarlene@ufc.br) on 2012-09-25T14:37:38Z (GMT) No. of bitstreams: 1 2012_dis_ramagalhaes.pdf: 3833484 bytes, checksum: 6220126ec2c30ba4d281c49de4ec6207 (MD5) / Made available in DSpace on 2012-09-25T14:37:38Z (GMT). No. of bitstreams: 1 2012_dis_ramagalhaes.pdf: 3833484 bytes, checksum: 6220126ec2c30ba4d281c49de4ec6207 (MD5) Previous issue date: 2012 / This work presents the investigation on the voltammetrc deposition of cadmium telluride (CdTe) onto platinum substrate from sulfuric acid-based electrolyte, at room temperature (24 °C). For this purpose, the linear sweep voltammetry technique was used in order to establish the values of deposition potential (-167 up to -444mV). The data extracted from the voltammetric essays suggest that different chemical and electrochemical steps are involved. The formation of cathodic peak with subsequent formation of the current plateau indicates the existence of mixed control of the CdTe deposition, while the anodic peak points out that the anodic dissolution of the material is complete. The deposited film presents dark gray color and its tonality depends on the potential. The films were characterized by scanning electron microscopy (SEM) and X-rays diffraction (XRD) techniques. It was found that the films deposited at different potentials have similar morphology, as like grains, are uniform and compact. The crystallite size is influenced by the potential. The XRD patterns of deposited films show peaks associated with the (200), (220), (311), (421) and (422) planes. / Neste trabalho é apresentada a investigação do processo de deposição voltamétrica do telureto de cádmio sobre substrato de platina em meio ácido sulfúrico a temperatura ambiente (24ºC). Para este efeito, recorreu-se a técnica de voltametria de varredura linear de potencial, a fim de estabelecer os valores de potencial de deposição. Os potenciais de deposição variaram entre -167 e -444mV. Os dados extraídos dos ensaios sugerem que etapas químicas e eletroquímicas estão envolvidas no processo. A formação de pico catódico com a subseqüente formação de patamar de corrente aponta a existência de controle misto na deposição do CdTe; enquanto o pico anódico indica que a dissolução do material é completa. O filme depositado apresenta cor cinza escura e a tonalidade varia com o potencial de deposição. Os filmes foram caracterizados por microscopia eletrônica de varredura (MEV) e difração de raios-X (DRX). Foi verificado que os filmes depositados nos diferentes potenciais apresentam aspectos morfológicos semelhantes, em forma de grãos, uniformes e compactos. O tamanho dos cristalitos é influenciado pelo potencial de deposição. Os difratogramas dos filmes depositados mostraram picos de difração associados aos planos (200), (220), (311), (421) e (422).

Quality tools, more specifically control charts, are important statistical resources to know and to monitor production processes. Their goal is to find the common and notable causes of a process to, through monitoring, increase the stability and, from it, assess if the process is under control. The dynamics of today s industrial activities has raised new requirements for good monitoring, and in that sense, new control tools have been developed and these are able to understand the new causal relationships among variables. The research shows the use of three modeling methodologies to treat autocorrelated data enabling to monitor a productive electroplating process. Initially, it was carried out a descriptive analysis for the verification of normality and independence and, afterwards, ARIMA from Box and Jenkins models, ARMAX models of multiple linear regression, MRLM, for the subsequent construction of waste control charts. In addition to the provided academic knowledge, it presents more than one application of control charts to the industrial environment, and also collaborates with the company where the research was developed showing which of the methods is more effective in controlling the production. The best result obtained by monitoring these three statistical methodologies work when confronted with the conventional control method, i.e., without treating the autocorrelation, it was used ARIMA model and a subsequent application of waste control charts derived from this modeling. The decision of the most effective methodology for modeling electroplating was defined by the number of points found out of the conventional limits established. The one that better captured the fluctuations of the process was obtained with the residues of ARIMA. / As ferramentas da qualidade, mais especificamente as cartas de controle, são importantes recursos estatísticos para se conhecer e monitorar processos produtivos, sendo que seu objetivo é encontrar as causas comuns e assinaláveis de um processo para, com seu monitoramento, aumentar sua estabilidade e, a partir daí, considerar se o processo está sob controle. A dinâmica das atividades industriais hoje existentes fez surgir novas necessidades para um bom monitoramento, e, nesse sentido, novas ferramentas de controle foram desenvolvidas, capazes de entender as novas relações causais entre as variáveis. A pesquisa apresenta o uso de três metodologias de modelagem para tratar dados autocorrelacionados possibilitando o monitoramento de um processo produtivo de eletrogalvanização. Inicialmente foi realizada uma análise descritiva para a verificação de pressupostos de normalidade e independência e após foram ajustados os modelos ARIMA de Box e Jenkis, modelos ARMAX e modelos de regressão linear múltipla, MRLM, para posterior construção das cartas de controle dos resíduos. Além do conhecimento acadêmico proporcionado, apresenta mais de uma aplicação das cartas de controle ao ambiente industrial, e também colabora com a empresa onde a pesquisa foi desenvolvida mostrando qual das metodologias é mais efetiva no controle da produção. O melhor resultado de monitoramento obtido com o trabalho estatístico nessas três metodologias quando confrontado com o método de controle convencional, ou seja, sem tratar a autocorrelação foi utilizando a modelo ARIMA e posterior aplicação dos gráficos de controle de resíduos oriundos desta modelagem. A decisão da metodologia de modelagem mais eficaz para a eletrogalvanização foi definida pelo número de pontos encontrados fora dos limites convencionais estabelecidos. A que melhor captou as flutuações do processo foi a obtida com os resíduos do ARIMA.