Made available in DSpace on 2015-03-03T15:11:25Z (GMT). No. of bitstreams: 1 JoseFernandoVN.pdf: 1709074 bytes, checksum: 0af621e6374e339196c6c65ecb0f15bc (MD5) Previous issue date: 2007-08-24 / O presente trabalho tem como objetivo investigar as caracter?sticas de filmes de SnO2 depositados em substrato de vidro borosilicato por um processo de silk-screen modificado para obten??o de espessura fina compat?vel com a aplica??o em c?lulas solares policristalinas de baixo custo. O filme de SnO2 ? um dos mais apropriados para obten??o de vidro TCO (transparent conductive oxide) para uso em c?lulas solares devido a sua baixa resistividade el?trica e alta transmit?ncia, sendo quimicamente inerte, mecanicamente duro e tem resist?ncia a altas temperaturas, o que facilita ent?o a calcina??o das amostras entre 500? C a 550? C. Os filmes foram obtidos a partir de uma solu??o precursora b?sica, preparada pela dissolu??o de SnCl2.2H2O em Etanol (99,5 %). Foi realizado um planejamento fatorial 2(3-1) para analisar a influ?ncia dos par?metros concentra??o da solu??o precursora (CETN), temperatura de calcina??o (TC) e taxa de aquecimento (tX) na calcina??o, sendo a concentra??o CETN o par?metro que apresentou maior efeito sobre os par?metros de respostas investigados: espessura do filme (?), resistividade de superf?cie (?) e a transmit?ncia relativa (?). Foi poss?vel obter com a metodologia utilizada, filmes com espessuras da ordem de 1 Nm com resistividade de superf?cie de 10 / e transmit?ncia relativa entre 70 e 80 %.