Spelling suggestions: "subject:"hochfrequenzplasma"" "subject:"hochfrequenzplasmen""
11 |
Schwerteilchen-Transport in Niedertemperatur-Plasmen Modellierung technisch relevanter PlasmenSenega, Thomas January 2006 (has links)
Zugl.: Bochum, Univ., Diss., 2006
|
12 |
Optimierung von Hochfrequenzplasmen zur effektiven Vorbehandlung von Kunststoff-Folie in BandbedampfungsanlagenRank, Rolf. Unknown Date (has links) (PDF)
Techn. Universiẗat, Diss., 2003--Chemnitz.
|
13 |
Temperature and density measurements at an inductively RF excited hydrogen plasma dischargeAbdel-Rahman, Mohamed. Unknown Date (has links) (PDF)
Essen, University Diss., 2004--Duisburg.
|
14 |
Profile der Plasmaparameter und Dichte negativer Wasserstoffionen mittels Laserdetachmentmessungen in HF-angeregten IonenquellenChrist-Koch, Sina January 2007 (has links) (PDF)
Augsburg, Univ., Diss., 2008.
|
15 |
Optimierung von Hochfrequenzplasmen zur effektiven Vorbehandlung von Kunststoff-Folie in Bandbedampfungsanlagen / Optimization of High-Frequency Discharges for Effective Pretreatment of Plastic Webs for Roll-to-Roll CoatingRank, Rolf 22 May 2003 (has links) (PDF)
Die Arbeit befasst sich mit der Optimierung einer kapazitiv gekoppelten Hochfrequenzentladung zur
Vorbehandlung von Kunststoff-Folien für Vakuum-Beschichtungsverfahren sowie zur Auswirkung der
Vorbehandlung auf die applikativen Eigenschaften Al-beschichteter Polypropylen-Folie.
Die Ausführung der Entladung in einer Hohlelektroden-Geometrie erlaubt die Vorbehandlung bei
hohen Bandgeschwindigkeiten (>3 m/s) (wie sie für industrielle Bedampfungsprozesse üblich ist)
aufgrund des unmittelbaren Kontaktes von Substratoberfläche und Plasma. Darüber hinaus erfolgt
durch die kapazitive Kopplung der Entladung ein zusätzlicher Ionenbeschuss des Substrates. Die
dabei inhärent hohen Ionenenergien (>1 keV) führen zu einer starken Schädigung des Substrates
wie anhand von TRIM-Rechnungen gezeigt wird.
Mit Hilfe von Plasma-Simulationsrechnungen werden Wege zur Reduzierung der Ionenenergie gezeigt.
Insbesondere wird der Einfluss von Magnetfeldern auf Ionenenergieverteilung und
Ladungsträgerdichte in HF-Entladungen untersucht. Aufbauend auf den Ergebnissen von
Plasma-Simulationsrechnungen wurde eine Plasmaquelle basierend auf einer magnetisch
verstärkten HF-Entladung für Substratbreiten von 400 mm entwickelt und in einer Pilotanlage für
die industrielle Folienbeschichtung eingebaut.
Mit Hilfe dieser Plasmaquelle wurde die in-line Vorbehandlung von Polypropylen-Folie für die
Bedampfung mit Aluminium bei Bandgeschwindigkeiten von bis zu 6 m/s durchgeführt. In Abhängigkeit
von der Vorbehandlungsdosis ist eine deutliche Verringerung der Permeationrate (Wasserdampf und
Sauerstoff) sowie eine Zunahme der Schichthaftung zu beobachten. TEM-Untersuchungen zeigen
unterschiedliches Kristallitwachstum, je nachdem ob die Al-Schicht auf einer vorbehandelten oder
unvorbehandelten Oberfläche aufgewachsen ist. Das zitierte Modell zum veränderten
Nukleationsverhalten der Al-Schicht liefert eine plausible Erklärung sowohl zur Veränderung der
Permeationseigenschaften als auch zur beobachteten Reduktion des Schichtwiderstandes.
|
16 |
Untersuchungen zur experimentellen Simulation des Eintritts von Raumflugkörpern in die MarsatmosphäreEndlich, Pia, January 2008 (has links)
Stuttgart, Univ., Diss., 2007.
|
17 |
Optimierung von Hochfrequenzplasmen zur effektiven Vorbehandlung von Kunststoff-Folie in BandbedampfungsanlagenRank, Rolf 30 April 2003 (has links)
Die Arbeit befasst sich mit der Optimierung einer kapazitiv gekoppelten Hochfrequenzentladung zur
Vorbehandlung von Kunststoff-Folien für Vakuum-Beschichtungsverfahren sowie zur Auswirkung der
Vorbehandlung auf die applikativen Eigenschaften Al-beschichteter Polypropylen-Folie.
Die Ausführung der Entladung in einer Hohlelektroden-Geometrie erlaubt die Vorbehandlung bei
hohen Bandgeschwindigkeiten (>3 m/s) (wie sie für industrielle Bedampfungsprozesse üblich ist)
aufgrund des unmittelbaren Kontaktes von Substratoberfläche und Plasma. Darüber hinaus erfolgt
durch die kapazitive Kopplung der Entladung ein zusätzlicher Ionenbeschuss des Substrates. Die
dabei inhärent hohen Ionenenergien (>1 keV) führen zu einer starken Schädigung des Substrates
wie anhand von TRIM-Rechnungen gezeigt wird.
Mit Hilfe von Plasma-Simulationsrechnungen werden Wege zur Reduzierung der Ionenenergie gezeigt.
Insbesondere wird der Einfluss von Magnetfeldern auf Ionenenergieverteilung und
Ladungsträgerdichte in HF-Entladungen untersucht. Aufbauend auf den Ergebnissen von
Plasma-Simulationsrechnungen wurde eine Plasmaquelle basierend auf einer magnetisch
verstärkten HF-Entladung für Substratbreiten von 400 mm entwickelt und in einer Pilotanlage für
die industrielle Folienbeschichtung eingebaut.
Mit Hilfe dieser Plasmaquelle wurde die in-line Vorbehandlung von Polypropylen-Folie für die
Bedampfung mit Aluminium bei Bandgeschwindigkeiten von bis zu 6 m/s durchgeführt. In Abhängigkeit
von der Vorbehandlungsdosis ist eine deutliche Verringerung der Permeationrate (Wasserdampf und
Sauerstoff) sowie eine Zunahme der Schichthaftung zu beobachten. TEM-Untersuchungen zeigen
unterschiedliches Kristallitwachstum, je nachdem ob die Al-Schicht auf einer vorbehandelten oder
unvorbehandelten Oberfläche aufgewachsen ist. Das zitierte Modell zum veränderten
Nukleationsverhalten der Al-Schicht liefert eine plausible Erklärung sowohl zur Veränderung der
Permeationseigenschaften als auch zur beobachteten Reduktion des Schichtwiderstandes.
|
18 |
Räumliche Konzentrationsverteilungen von N2-Triplett-Zuständen im elektrodennahen Plasma einer RF-NiederdruckentladungKrames, Bert 20 April 2000 (has links) (PDF)
Im Niedertemperaturplasma einer Stickstoff-Hochfrequenzgasentladung werden mit Hilfe der plasmadiagnostischen Methoden LIF und OES räumliche Konzentrationsprofile der N2-Triplett-Zustände A, B und C in verschiedenen Schwingungsniveaus studiert. Dabei wird die Druckabhängigkeit im Bereich 30 bis 100 Pa und die Abhängigkeit von der Brennspannung bis 250 V untersucht.
Die deutlich unterschiedlichen räumlichen Verteilungen der verschiedenen Spezies werden mit Hilfe einer Modellierung beschrieben, die sowohl Elektronenstoßanregung in der Plasmarandschicht als auch Diffusion, Stoßabregung, Kaskadenprozesse sowie Deaktivierung durch Wandstöße berücksichtigt. Dabei zeigt sich, daß vor allem Wandstöße für die räumliche Verteilung der langlebigen Spezies A(v=0,1) von zentraler Bedeutung sind. Die kurzlebigen C und B finden sich hingegen hauptsächlich in der Plasmarandschicht.
Durch die Kombination der LIF mit Rayleighstreulichtexperimenten werden absolute Teilchendichten der drei Triplett-Zustände bestimmt.
|
19 |
Räumliche Konzentrationsverteilungen von N2-Triplett-Zuständen im elektrodennahen Plasma einer RF-NiederdruckentladungKrames, Bert 24 March 2000 (has links)
Im Niedertemperaturplasma einer Stickstoff-Hochfrequenzgasentladung werden mit Hilfe der plasmadiagnostischen Methoden LIF und OES räumliche Konzentrationsprofile der N2-Triplett-Zustände A, B und C in verschiedenen Schwingungsniveaus studiert. Dabei wird die Druckabhängigkeit im Bereich 30 bis 100 Pa und die Abhängigkeit von der Brennspannung bis 250 V untersucht.
Die deutlich unterschiedlichen räumlichen Verteilungen der verschiedenen Spezies werden mit Hilfe einer Modellierung beschrieben, die sowohl Elektronenstoßanregung in der Plasmarandschicht als auch Diffusion, Stoßabregung, Kaskadenprozesse sowie Deaktivierung durch Wandstöße berücksichtigt. Dabei zeigt sich, daß vor allem Wandstöße für die räumliche Verteilung der langlebigen Spezies A(v=0,1) von zentraler Bedeutung sind. Die kurzlebigen C und B finden sich hingegen hauptsächlich in der Plasmarandschicht.
Durch die Kombination der LIF mit Rayleighstreulichtexperimenten werden absolute Teilchendichten der drei Triplett-Zustände bestimmt.
|
Page generated in 0.0465 seconds