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Técnicas de holografia computacional usando moduladores espaciais de luz aplicadas em fotolitografia sem máscaraMarinheiro, Ricardo Fonte January 2017 (has links)
Orientador: Prof. Dr. Marcos Roberto da Rocha Gesualdi / Dissertação (mestrado) - Universidade Federal do ABC, Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica, 2017. / Estudos da aplicação de moduladores espaciais de luz do tipo LCoS (Liquid Cristal
on Silicon) e técnicas holográficas em substituição às máscaras no processo de
fotolitografia são apresentados. Hologramas Gerados por Computador (HGC) a partir
de duas imagens com dimensões conhecidas, simulando uma máscara de campo
claro e uma máscara de campo escuro, foram aplicados a um modulador espacial de
luz LCoS conectado a um arranjo óptico capaz de reduzir as imagens reconstruídas,
permitindo o levantamento dos parâmetros de maior relevância no processo de
fotolitografia para fabricação de estruturas micrométricas e, a partir da sua
caracterização, identificar os limites impostos pelo modulador espacial de luz LCoS
nesse processo. Registro das imagens, com diferentes dimensões, adquiridas à
partir da reconstrução dos HGC provenientes das máscaras de campo claro e
campo escuro, foram realizados através de uma câmera CCD e filmes de alta
resolução. Os resultados permitiram a visualização e medição de estruturas com até
13 Pm e representam uma base de estudo na busca de alternativas para
substituição das máscaras em processos de fotolitografia / Application studies of the Spatial Light Modulators LCoS type (Liquid Crystal on
Silicon) and holographic techniques to replace the masks in the photolithography
process are presented. Computer-generated Holograms (HGC) from two images with
known dimensions, simulating a clear field mask and a dark field mask, were applied
to a Spatial Light Modulators LCoS connected to an optical arrangement capable of
reducing the reconstructed images, allowing the survey of the parameters of greater
relevance in the process of photolithography to fabricate micrometric structures and
from its characterization to identify the limits imposed by the Spatial Light Modulators
LCoS in this process. Recording of the images, with different dimensions, acquired
from the reconstruction of the HGC from clear field and dark field masks, were
performed through a CCD camera and high resolution films. The results allowed the
visualization and measurement of structures up to 13 ìm and represent a base of
study in the search of alternatives for replacing the masks in photolithography
processes.
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