Made available in DSpace on 2015-04-14T13:58:44Z (GMT). No. of bitstreams: 1 434834.pdf: 2467680 bytes, checksum: d94eca86dabe6ec28377349c07e8a880 (MD5) Previous issue date: 2011-08-31 / O comportamento passivante da camada formada de ?xido de tit?nio ? uma caracter?stica relevante para a aplica??o biom?dica. As intera??es com o meio biol?gico ap?s a implanta??o de uma pr?tese est?o diretamente ligadas, entre outros fatores, com as propriedades f?sico-qu?micas da superf?cie do material implantado. As superf?cies de tit?nio que s?o tratadas qu?mica ou eletroquimicamente tendem a desenvolver camadas espec?ficas com composi??o qu?mica e porosidade que promovem a osseointegra??o. O objetivo deste trabalho ? estudar o processo de anodiza??o para desenvolver o crescimento de nanotubos de TiO2 em substrato de tit?nio comercialmente puro. Foram utilizadas solu??es eletrol?ticas de 1M H3PO4 e 0,2 % de HF variando a tens?o aplicada e alterando o distanciamento entre os eletrodos. Ap?s o processo an?dico as esp?cimes foram tratadas termicamente nas temperaturas de 500, 600, 700, 800 e 900?C. Os film es formados e tratados termicamente foram analisados por microscopia eletr?nica de varredura (MEV), espectroscopia por energia dispersiva (EDS) e difratometria de raios X (DRX). Os resultados indicaram a forma??o de nanotubos nos filmes de ?xidos de tit?nio tratados anodicamente em toda extens?o da superf?cie, al?m de boa uniformidade da camada de ?xido e regularidade do di?metro dos nanotubos de 171nm. As an?lises da composi??o qu?mica indicaram a presen?a de f?sforo, oriundos das condi??es do experimento. A estrutura cristalogr?fica verificada foi hexagonal, a qual corresponde ? estrutura do tit?nio.

Made available in DSpace on 2015-04-14T13:58:25Z (GMT). No. of bitstreams: 1 400633.pdf: 244771 bytes, checksum: 929e01919e85f7195f849c8c0c09bddc (MD5) Previous issue date: 2008-04-22 / Tit?nio e suas ligas s?o amplamente aplicados como materiais de implantes ortop?dicos e odontol?gicos devido a sua excelente biocompatibilidade, baixo m?dulo de elasticidade e alta resist?ncia ao desgaste e ? corros?o. Os fatores que influenciam decisivamente a adequada funcionalidade de um biomaterial s?o o crescimento do tecido ?sseo e a sua ades?o ? superf?cie do implante. Pesquisas recentes indicam que o processo de ades?o entre o implante e o tecido vivo depende da rugosidade superficial, devido ? modifica??o da sua superf?cie, e do crescimento ?sseo nesta regi?o. Essas modifica??es s?o alcan?adas principalmente com a deposi??o de revestimentos porosos por aspers?o t?rmica, a aplica??o de jateamentos com particulados cer?micos, ataques ?cidos e eletroqu?micos, entre outros. O objetivo espec?fico desta pesquisa ? estimar a osseointegra??o de filmes porosos de tit?nio em contato com a cortical ?ssea de ovinos, bem como avaliar o comportamento do processo de osseocondu??o desses filmes. O segundo objetivo ? avaliar a ades?o destes filmes porosos de tit?nio depositados sobre superf?cies modificadas de discos de tit?nio. As t?cnicas de fluoresc?ncia de raios X e espectroscopia por energia dispersiva de raios X foram aplicadas para verificar a composi??o qu?mica dos implantes, filme de tit?nio e implantes osseointegrados. A Microscopia Eletr?nica de Varredura foi usada para caracterizar a morfologia dos discos de Ti, filme de tit?nio e a interface tecido ?sseo/filme de tit?nio/metal-base. Testes de tra??o foram aplicados para avaliar a osseointegra??o dos filmes de tit?nio e a ades?o destes aos discos. Os valores de tens?o de ruptura estimados para os filmes de tit?nio s?o superiores aos verificados em discos sem revestimento poroso de tit?nio (RENZ, 2007), principalmente no per?odo de 30 dias p?s-operat?rio. Os filmes de tit?nio atacados com ?cido fluor?drico apresentaram os maiores valores de tens?o de ruptura da interface osso-filme quando comparados aos filmes somente depositados, indicando aumento da osseointegra??o. Os valores de ades?o dos filmes de tit?nio para as superf?cies modificadas s?o maiores que os valores de ades?o na superf?cie somente usinada.