Die vorliegende Arbeit beschreibt einen neuartigen Ablauf zur Herstellung eines Vibrationssensors auf Waferebene. Die Besonderheit des Sensors liegt in der Reduktion des Spaltmaßes der kapazitiven Elektroden im Anschluss an die Strukturerzeugung. Dies gelingt unter Nutzung des Mikroschweißprozess von Siliziumelementen. Hierbei sieht die innovative Fertigungstechnologie eine Strukturhöhe von 100 μm vor. Zusätzlich wird die Erarbeitung einer Struktur für die Durchführung eines Mikrozugversuchs auf Waferebene beschrieben. Dieser dient der Bestimmung der maximal ertragbaren Zugkraft mikromechanischer Schweißverbindungen und ermöglicht die fertigungsbegleitende Prozesskontrolle. Auf Basis der Messwerte lassen sich Rückschlüsse auf die Geometrie der Schweißstruktur ableiten als auch ein zerstörungsfreies Modell für die Vorhersage der Verbindungsfestigkeit entwickeln. Die Ergebnisbewertung umfasst die qualitative als auch quantitative Charakterisierung der Mikroschweißverbindung sowie die Bewertung des Vibrationssensors in Form eines Funktionsdemonstrators. / The Ph.D. thesis focuses on a novel approach for the fabrication of a MEMS accelerometer on wafer level. The technology relies on the micro welding process of silicon, which is utilized for fixing one component of the capacitive electrode system at a deflected position. Consequently, the gap width of the variable capacitor is reduced below 1 µm for a structure height of 100 µm. The silicon micro welding process is reviewed and investigated. By utilizing a micro tensile test, the maximum bearable load is deduced for different welding geometries. Following these results, a model for predicting the strength of the micro welding site is introduced, allowing for non destructive process monitoring. Finally, the characteristics of the MEMS accelerometer are measured on wafer level and chip level after hermetic packaging respectively.

<p dir="ltr">This thesis deals with optical cavity-coupled two-dimensional (2D) materials. First, we describe a new theoretical approach to model the properties of cavity-coupled plasmons in 2D conductors. Next, we propose an optical cavity architecture for enhanced light-matter interaction with potential for performance and functionality beyond that of traditional approaches and describe an initial investigation of one example of such a system. Finally, we provide a thorough description of the fabrication techniques used to produce the previously mentioned optical cavities.</p><p dir="ltr">The advent of 2D materials has opened exciting possibilities for controlling light-matter interactions at the nanoscale. The first major contribution of this work is the investigation of coupling between patterned 2D Van der Waals materials and Fabry-Perot cavities, focusing on how system parameters like pattern shape and material properties influence these interactions. Using a quasistatic eigenmode expansion approach, we develop a theoretical framework to predict and manipulate optical behavior in these systems. Our work opens new pathways for engineering light-matter interactions within patterned 2D material platforms, paving the way for the engineering of novel optical phenomena.</p><p dir="ltr">The second major contribution of this work is the development of a versatile platform for light-matter coupling experiments in Van der Waals materials. It is well-known that light-matter interaction can be used to realize unprecedented functionality in the coupled materials. However, few---if any---approaches to date utilize this phenomenon to its fullest extent. We have provided a platform that can be used to realize light-matter coupling efficiencies beyond what is possible in conventional systems, can be easily integrated with 2D materials, and provides new opportunities to engineer the photonic environment of the coupled material. In particular, we focus on silicon dielectric bowtie cavities (DBCs) coupled to few-layer flakes of $\rm WSe_2$. This approach leverages topology-optimized cavity architectures to achieve simultaneous spatial and spectral confinement, yielding Purcell factors exceeding 2500, mode volumes as small as $\sim10^{-3}(\lambda/2n)^3$, and quality factors up to $\sim200$---performance metrics limited only by material losses. The lithographically defined DBCs enable deterministic emission hotspot placement and tunability across a broad wavelength range with minimal performance impact. Photoluminescence imaging and spectroscopy reveal comparable $\rm WSe_2$ exciton emission enhancement to plasmonic structures. This platform surpasses the limitations of conventional cavity architectures by enabling unprecedented coupling efficiencies and unique functionality while maintaining sufficient mechanical robustness for 2D material transfer.</p><p dir="ltr">The final chapter outlines the fabrication process for the cavities described in the previous chapter. The fabrication involves advanced nanolithography techniques to define patterns with high resolution, addressing challenges such as proximity effects and process blur. Techniques such as proximity effect correction (PEC) are used to enhance pattern accuracy, while careful optimization of exposure and development parameters ensures minimal distortion. The process utilizes high-anisotropy reactive ion etching to transfer the patterns onto the substrate, where precise optimization of the etching parameters has been performed to achieve high resolution and selectivity. The final optimized process yields structures with a minimum feature size of approximately 20 nm and minimum radius of curvature of approximately 10 nm, allowing for the repeatable fabrication of complex inverse-designed cavities.</p>

Μια από τις σημαντικότερες τεχνικές εγχάραξης σε μίκρο και νάνο-κλίμακα είναι αυτή της ξηρής εγχάραξης με πλάσμα. Η παρούσα εργασία είχε σαν σκοπό την κατασκευή διάταξης επεξεργασίας ψυχρού πλάσματος χαμηλής πίεσης που να λειτουργεί στο πεδίο των ραδιοσυχνοτήτων, με την προοπτική να χρησιμοποιηθεί για την επεξεργασία πολυμερών και άλλων υλικών που χρησιμοποιούνται στις μονώσεις υψηλών τάσεων ώστε να βελτιωθούν διάφορες ιδιότητές τους όπως η επιφανειακή υδροφοβία και η αντοχή στη ρύπανση. Ειδικότερα: Στο πρώτο κεφάλαιο γίνεται εισαγωγή του αναγνώστη στην επεξεργασία πλάσματος και συγκεκριμένα στην εγχάραξη και τους φυσικούς και χημικούς μηχανισμούς της. Αναλύεται η διάταξη RIE, η οποία εφαρμόζεται κατά την κατασκευή του συστήματος. Στο δεύτερο κεφάλαιο περιγράφεται ο σχεδιασμός και η κατασκευή της διάταξης επεξεργασίας, η οποία αποτελείτε από διακριτά μέρη όπως οι θάλαμοι, το πνευματικό σύστημα, το αντλητικό σύστημα και το σύστημα τροφοδοσίας της ισχύος. Δόθηκε ιδιαίτερη προσοχή στη λεπτομερή περιγραφή του κάθε εξαρτήματος που ενσωματώθηκε και ο εξειδικευμένος ρόλος του, ενώ τα αναλυτικά κατασκευαστικά σχέδια παρατίθενται στο παράρτημα. Στο τρίτο κεφάλαιο γίνεται βασικός χαρακτηρισμός του αντιδραστήρα. Δηλαδή, παρουσιάζονται οι ηλεκτρικές μετρήσεις οι οποίες ταυτίζονται με τη βιβλιογραφία, παρουσιάζονται οπτικές μετρήσεις από τις οποίες γίνεται ταυτοποίηση ενεργών σωματίων, τα οποία επίσης είναι σύμφωνα με τη βιβλιογραφία παρόμοιων συστημάτων και τέλος, γίνεται ενδεικτική επεξεργασία πολυμερούς και έλεγχος του αποτελέσματος, το οποίο είναι η πιστή απόδοση μοτίβου και ρυθμός εγχάραξης 30nm/min. Στο τέταρτο και τελευταίο κεφάλαιο προτείνονται μελλοντικές εργασίες και βελτιώσεις. / One of the most prominent etching techniques at micro and nano-scale is dry plasma etching. This work’s purpose was the fabrication of a cold plasma low pressure radio-frequency processing rig, with the prospect of being used for polymer and other materials processing, that are used in high voltage insulators, in order to improve their surface properties such as hydrophobicity and pollution resistance. In particular; In the first chapter the reader is being introduced in plasma processing and in particular in etching and physical and chemical mechanisms. RIE set-up, which is to be applied in our rig, is being analyzed. In the second chapter the design and fabrication of the processing rig are being described, which includes parts like the chambers, the pneumatic system, the pumping system and the power delivery system. Special care has been given for a detailed description of every added component and its specialized role, while their analytical mechanical designs are collocated in the appendix. In the third chapter a basic characterization of the reactor is being delivered. Namely, we present electrical measurements which correspond precisely to bibliography and we also present optical measurements from which identification of reactive species is derived, also in accordance to bibliography. Finally, a polymeric substrate is indicatively processed and the result is the faithful pattern transfer by an etching rate of 30nm/min. In the fourth and last chapter, suggestions for future work and improvements are made.

No description available.

Adhezní schopnosti gekona byly předmětem mnoha studií a inspirací pro vytvoření mnoha napodobenin. Tato práce navrhuje vlastní verzi umělých gekoních struktur ve tvaru mikroskopických pilířů, které by vykazovaly adhezní vlastnosti srovnatelné s tlapkou gekona. Vyrobeny byli struktury z polymeru Parylen C pomocí fotolitografie a technik na leptání křemíku. Dalším cílem bylo různými metodami pro modifikaci povrchu a charakterizaci vytvořených struktur, které určí adhezní síly těchto povrchů, před a po modifikacích.