Ce mémoire traite de l’étude de la croissance de nanofils (In,Ga)N par épitaxie en phase vapeur par la méthode aux hydrures (HVPE). L’objectif est de contrôler l’homogénéité, la composition et les dimensions des fils. La première partie de ce travail est consacrée à l’étude de la croissance auto-organisée de nanofils InGaN par HVPE. Les résultats montrent qu’il est possible de maitriser la composition des fils en indium, de 7 % à 90 %, en ajustant la composition de la phase vapeur. Des caractérisations structurales confirment une très bonne qualité cristalline des nanofils InGaN obtenus ainsi qu’une parfaite homogénéité sur leurs longueurs. Ce travail expérimental a été couplé à un travail de modélisation théorique basée sur des calculs thermodynamiques. Un deuxième travail portant sur l’étude de l’épitaxie sélective de réseaux de fils (In,Ga)N sur des templates GaN/c-Al2O3, masqués par un diélectrique, est réalisée. La croissance, parfaitement sélective et reproductible, de nano- et microrods d’InN de très bonne qualité cristalline est démontrée pour la première fois par HVPE. Une étude systématique sur l’influence des paramètres de croissance a permis de déterminer la hiérarchie des vitesses de croissance des différentes facettes des rods et d’identifier les phénomènes physiques mis en jeu. Un modèle de croissance basé sur les énergies de surface et d’interface est proposé afin d’expliquer la présence d’un creux dans les rods d’InN. Des études en photoluminescence sur des ensembles de nanorods d’InN ont mis en évidence un fort dopage de type n et indiquent également la présence d’une surface d’accumulation des porteurs de charge sur les parois des rods. Enfin, l’étude de la faisabilité de la croissance sélective d’InGaN par HVPE est initiée. / This thesis focuses on a comprehensive study of (In, Ga)N nanowires grown by hydride vapor phase epitaxy (HVPE), combining the growth technology, complementary chemical and structural analyses and theoretical modeling. The first part of this work is devoted to the study of the self-induced growth of InGaN nanowires by HVPE. The end result shows that growth of vertically aligned InGaN nanowires with a high crystalline quality can be synthesized by this cost-effective technique. The indium content can be varied from 7 % to 90 % with a high degree of homogeneity along the nanowire length with a good crystal quality. This is achieved by understanding the kinetics of interconnected chemical reactions in the vapor phase, and coupling them with the kinetically controlled composition of solid nanowires. The second focus section of this work looks at the selective area growth of (In, Ga)N nanorods. Well-ordered and vertically aligned InN nano and microrods with high aspect ratio and high crystalline quality are synthetized by HVPE using the SAG approach. The growth occurs through the apertures of a SiNx masked Ga-polar GaN/c-Al2O3 template for adjusted growth temperature and V/III ratio. A systematic study of the evolution of InN nanorods shape under various growth conditions: growth temperature, growth time and the input NH3 partial pressure, is investigated. A growth model based on surface and interface energies is proposed to explain the presence of a void in these InN nanorods. Photoluminescence measurements on InN nanorods reveal strong n-type doping and indicate the presence of a carrier accumulation on the nanorods surfaces. Finally, the selective growth feasibility of InGaN nanorods by HVPE is initiated.