Šiame darbe apžvelgiama plazmos savybės, jonų ir atomų sąveika su kietų kūnų paviršiais, balistiniai procesai. Aptarti plonų dangų nusodinimo metodai, titano dioksido (TiO2) panaudojimo galimybės ir fotokatalitinis efektas. TiO2 yra plačiai naudojamas pramonėje dėl savo gerų mechaninių, elektrinių ir optinių savybių. Magnetroninis dulkinimas buvo pasirinktas dangų formavimo procese. Darbo tikslas – oksiduoti titano dangas reaktyvioje vandens garų plazmoje naudojant joninio implantavimo technologiją ir paaiškinti deguonies bei vandenilio judėjimo mechanizmą Ti dangose. Bandiniai paveikti skirtingos galios plazma, oksidavimo laikai nevienodi. Prieš ir po sąveikos su plazma dangos analizuotos šiais metodais: SEM, EDS, GDOES, AES, XRD. Pagal gautus rezultatus darbe gilintasi į skirtingo storio dangų oksidavimo mechanizmus. / In this paper plasma properties, ions and atoms interaction with solids is explained as well as ballistic processes. Thin films deposition methods, TiO2 characteristics and photocatalytic effect is discussed. Titanium oxide is widely used in industry for its good mechanical, electrical and optical properties. Physical vapor deposition is a method that enables us to obtain the layers with desirable properties. The aim of this research is to oxidize titanium using water vapor plasma immersion ion implantation (PIII) technology and to develop the mechanism of oxygen and hydrogen transport in Ti film. Samples were fabricated after different power and duration of plasma treatment. All of them have been analyzed by nanoprofilometer, SEM (scanning electron microscopy), EDS (energy dispersive X – ray spectroscopy), AES (Auger electron spectroscopy), GDOES (glow discharge optical emission spectroscopy) and XRD (X – ray diffraction). The oxidation mechanism of Ti films with different thicknesses is discussed on the basis of the obtained experimental results.

Šio darbo literatūros apžvalgoje aptariami plazmos tipai, plazmos charakteristikos bei sąveika su medžiaga. Aptariama plazminės implantacijos technologija. Trumpai apibūdinama vandens garų plazma ir jos panaudojimas. Apžvelgiama titano oksido struktūra bei jo panaudojimas katalizatorių gamybai, kurie gali būti skirti skaldyti vandens molekules ir gaminti vandenilį. Darbe paaiškinamas magnetroninis nusodinimas bei jo privalumai. Darbo metu buvo oksiduojamas titanas vandens garų plazmoje. Titano oksidacija priklauso nuo daugybės plazmoje vykstančių procesų (adsorbcija, sulaikymas, vakansijų susidarymas ir pan.). Titano oksido panaudojimas yra labai platus dabartiniu metu. Aptariama šio eksperimento technologija bei atliekama oksiduotų titano dangų analizė. SEM, XRD, AES, GDOES analizės metodais buvo tiriama titano dangos oksidacija ir aiškinamas oksidacijos mechanizmas. / Types of plasma, characteristics and plasma interaction with solids are discussed in the literature review of this paper. Also, the plasma immersion ion implantation are described. Water vapour plasma are briefly discussed. Titanium oxide structure and it‘s usage for catalyst which could split water molecules are reviewed. Magnetron deposition are explained in this paper. The titanium film was oxidized by water vapour plasma on experiment. The oxidation of titanium depends on many processes in plasma (adsorption, trapping, formation of oxygen vacancies and etc.). Appliance of titanium oxide is very large in recent times. Experimental technology are discussed and plasma treated films are analysed. Titanium oxidation was analysed by SEM, XRD, AES, GDOES. Oxidation mechanism was explained in this paper.