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Jheronimus Bosch : tussen volksleven en stadscultuur /

Vandenbroeck, Paul, January 1900 (has links)
Texte remanié de: Proefschrift--Letteren--Katholieke universiteit Leuven, 1986. / Bibliogr. p. 495-513.
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Modélisation de la gravure profonde du silicium en plasmas fluorés : étude du procédé BOSCH : simulations et calibration expérimentale / Modeling of deep silicon etching using fluorinated plasmas : BOSCH process study : simulations and experimental validation

Le Dain, Guillaume 19 October 2018 (has links)
Dans le cadre d’une collaboration entre l’Institut des Matériaux Jean Rouxel (IMN) et STMicroelectronics Tours, cette étude vise à développer un simulateur de gravure du silicium par procédé Bosch. Actuellement utilisé dans le domaine de la microélectronique pour la gravure de vias, le procédé Bosch est un procédé pulsé de gravure par plasma. Un plasma de SF₆ permet la gravure du silicium par voie chimique, par adsorption de fluor atomique en surface du silicium pour créer des molécules volatiles. Un second plasma de C₄F₈ permet de protéger la surface exposée au plasma de gravure chimique, à l’aide d’un dépôt de polymère de fluorocarbonés. Ce polymère est supprimé dans la zone exposée au bombardement ionique. La répétition de pulses SF₆/C₄F₈ permet alors la création de motifs à fort facteur de forme (plus profonds quelarges).Afin de mieux connaître les mécanismes physico-chimiques qui régissent ce procédé, nous avons développé un simulateur de gravure basé sur une approche multi-échelle. Cet outil sert à reconstituer des profils de gravure en fonction des conditions opératoires renseignées (pression, puissance, débit, géométrie du réacteur). Le modèle cinétique calcule les densités et flux d’espèces neutres et ioniques crées dans le plasma. Le modèle de gaine détermine les fonctions de distributions énergétiques et angulaires des ions. Le modèle de surface détermine l’évolution spatio-temporelle des structures gravées par procédé Bosch. Pour calibrer le simulateur, des campagnes expérimentales ont été réalisées à l’IMN sur la phase plasma, ainsi que sur le site STMicroelectronics Tours, sur l’impact des conditions opératoires sur l’évolution des profils de gravure. / Due to a collaborationbetween IMN of Nantes and STMicroelectronics Tours, the aim of this study is the development of silicon etching simulator using Bosch process Nowadays used for microelectronics devices such as 3D capacitors or vias, Bosch process is a cyclic plasma etching process. Two plasmas are needed, a SF₆ plasma to etch silicon by chemical way, using mainly chemical processes. A C₄F₈ plasma which allows the deposition of fluorocarbon species into a “Teflon-Like” polymer, to passivate sidewalls of the trenches and protect them from chemical etching. This polymer is removed by ion bombardment. By the repetition of a large amount of SF₆/C₄F₈pulses, the process leads to the creation of features with a high aspect ratio (a high depth for a low aperture).To develop an intimate knowledge about physical and chemical interactions involved in Bosch process, we develop a simulation tool based on a multiscale approach. This software allows to track the etch profile evolution versus operating conditions (pressure, power, flow rate, reactor diameter and height). Kinetic model provides space-avergaed values of plasma paramters at steady state. Sheath model determines ion energy and angular distribution functions. Surface model manages these data to know temporal evolution of a representative feature into the substrate surface exposed to Bosch process. To validate the model, we carried out some experiments at IMN, dedicated to plasma phase measurements, and at STMicroelectronics Tours, dedicated to the study of the influence of theoperating conditions on the etch profile evolution.
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Hieronymus Bosch Malerei als Vision, Lehrbild und Kunstwerk

Fischer, Stefan January 2009 (has links)
Zugl.: Bonn, Univ., Diss.
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De vergeten beeldentaal van Jheronimus Bosch : de symboliek van de Hooiwagen-triptiek en de Rotterdamse Marskramer-tondo verklaard uit Middelnederlandse teksten /

Bruyn, Eric de, January 2001 (has links)
Proefschrift--Bruxelles--Katholieke Universiteit, 2000. / "AB" = Adr. Heinen et "ABC" = Stichting Archeologie, Bouwhistorie en Cultuur. Bibliogr. p. 521-551.
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The fire landscape: its sources and its development from Bosch through Jan Brueghel I, with special emphasis on the mid-sixteenth century Bosch "revival"

Corwin, Nancy A. January 1900 (has links)
Thesis (Ph. D.)--University of Washington. / Bibliography: l. [538]-555.
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Wijkgezondheidswerk een studie naar 25 jaar wijkgericht werken aan gezondheid in Den Bosch-Oost /

Paes, Maria Josephine Hendrika. January 2008 (has links)
Proefschrift Universiteit van Amsterdam. / Met samenvatting in het Engels.
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Johannes van den Bosch als sociaal hervormer de Maatschappij van Weldadigheid ... /

Westendorp Boerma, J. J. January 1927 (has links)
Thesis (Ph. D.)--Universiteit van Amsterdam, 1927. / Includes bibliographical references and "Stellingen."
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Johannes van den Bosch als sociaal hervormer de Maatschappij van Weldadigheid ... /

Westendorp Boerma, J. J. January 1927 (has links)
Thesis (Ph. D.)--Universiteit van Amsterdam, 1927. / Includes bibliographic notes and "Stellingen".
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Hieronymus Bosch : die Rezeption seiner Kunst im frühen 16. Jahrhundert /

Unverfehrt, Gerd. January 1900 (has links)
Inaug.-Diss.--Kunstwissenschaft--Göttingen, 1973-1974. / Bibliogr. p. 292-304. Index.
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Robert Bosch

13 May 2013 (has links) (PDF)
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