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1	Selektive Bedampfung mittels Molekularstrahlen Kupfer, Hartmut, Hecht, Günther 03 March 2010 (has links) (PDF) Durch eine selektive Bedampfung von Kontaktbauteilen kann der Edelmetallverbrauch gesenkt werden. Das Molekularstrahlverfahren wird bezüglich seiner Eignung zur selektiven Beschichtung untersucht. Die wichtigsten Quellenparameter (Verdampfungsrate dN/dt und Halbwertsbreite H) werden abgeschätzt und mit der experimentell ermittelten Schichtdickenverteilung verglichen. Bedampfung Schichtdickenverteilung Verdampfungsrate ddc:530 Beschichtung Halbwertsbreite Molekularstrahl Oberflächenveredelung
2	Selektive Bedampfung mittels Molekularstrahlen Kupfer, Hartmut, Hecht, Günther 03 March 2010 (has links) Durch eine selektive Bedampfung von Kontaktbauteilen kann der Edelmetallverbrauch gesenkt werden. Das Molekularstrahlverfahren wird bezüglich seiner Eignung zur selektiven Beschichtung untersucht. Die wichtigsten Quellenparameter (Verdampfungsrate dN/dt und Halbwertsbreite H) werden abgeschätzt und mit der experimentell ermittelten Schichtdickenverteilung verglichen. info:eu-repo/classification/ddc/530 ddc:530 Beschichtung Halbwertsbreite Molekularstrahl Oberflächenveredelung Bedampfung Schichtdickenverteilung Verdampfungsrate