低応力X線吸収体の成膜とX線マスクのパターン位置精度の向上に関する研究

Description

京都大学 / 0048 / 新制・論文博士 / 博士(工学) / 乙第12791号 / 論工博第4098号 / 新制||工||1583(附属図書館) / 30810 / (主査)教授 斧 髙一, 教授 田畑 修, 教授 琵琶 志朗 / 学位規則第4条第2項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

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1. http://hdl.handle.net/2433/180616
2. 14301乙第12791号
3. 10.14989/doctor.r12791
4. 14301

Tags

半導体デバイス

リソグラフィー

X線マスク

応力

吸収体

500

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/180616
Date	25 November 2013
Creators	丸本, 健二
Contributors	斧, 髙一, 田畑, 修, 琵琶, 志朗, Marumoto, Kenji, マルモト, ケンジ
Publisher	京都大学 (Kyoto University), Kyoto University
Source Sets	Kyoto University
Language	Japanese
Detected Language	English
Type	doctoral thesis, Thesis or Dissertation
Format	application/pdf