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透過專利、學術論文分析技術發展趨勢-以蝕刻技術為例 / Technology Trends Analysis via Patent and Scientific Publication - A Case Study of Etching

競爭是現代社會中無所不在的行為,國家或企業透過產業競爭分析、企業競爭分析,乃至市場分析及技術預測(Technological Forecast),才能知己知彼並且擬定正確的決策。對科技產業而言,若企業無法隨時掌握技術發展的趨勢,儘早投入技術研發或調整企業的經營策略。不久之後,市場便會被其他競爭對手所佔據。所幸,沒有一項技術發明是直接由發明者的腦袋直接跳到廣泛應用的境地。其間總是經過好幾個連續階段,每一個階段都使得「實用性」及「有用性」更成熟。因此若能掌握科技發展的脈絡,早期投入研發,便能維持企業的競爭優勢。

專利資訊可以用來評估與預測技術發展、規劃研發或技術發展項目、避免誤觸專利權而浪費研發資源、掌握企業發展動向及市場需求。許多企業和政府機關已經發現專利分析的重要性,並且投入大量的人力、物力來進行專利分析的工作。然而,專利的申請日和公開日之間還是存在至少18個月的時滯,若企業過渡倚賴專利資訊的分析,容易使後續的研發資源投入競爭激烈的技術紅海當中。因此若要充分掌握前瞻技術發展的脈動,基礎研究趨勢分析相對於專利趨勢分析,其重要性有過之而無不及。

在分析方法方面,現存的書目記錄以科學與技術類佔大多數,因此,以書目計量學為工具,自然成為研究「科學」技術整體發展的主流。除了傳統的計量分析之外,利用自動化的方法,挖掘大量文件中的隱含及有用知識,也是最近熱門的研究議題。對探勘技術而言,關聯分析、分群、預測等探勘技術,也漸漸成為技術預測不可或缺的工具之一。

過去曾有眾多的研究利用書目計量來分析學術論文或專利資訊,而最近幾年則陸續出現利用文字探勘來分析學術論文或專利資訊,但這樣的分析結果是片段而不完全的。本研究提出整合性的概念,同時結合計量分析(Bibliometrics)與文字探勘(Text Mining)兩種方法,分別對學術論文(Science Citation Index Expanded)與專利資訊(Derwent World Patents Index)這兩種文獻資料作分析,透過互相比較來瞭解技術發展的趨勢。除此之外,也希望透過個案分析,對本研究所提出之方法論本身,探討之間的關聯性。

在選擇個案方面,奈米科技是目前最熱門的科技產業發展方向。其中最具代表性的產業即「半導體產業」和「微機電系統產業」。蝕刻(Etching)製程與設備技術的良劣,直接影響晶圓產品良率的高低,是影響奈米科技未來發展的重要技術之一。故蝕刻技術之發展趨勢值得深入研究。

而本研究之研究結論如下:
1.技術趨勢分析在層次上宜由遠(計量分析)而近(文獻探勘),理論(論文資料)與應用(專利資料)應並重,分析結果才能互補長短。
2.科學發展與市場需求為專利技術生命週期的領先指標。
3.科學發展增加技術商業化的應用,但市場需求則強化了創新擴散的效果。
4.蝕刻技術的基礎研究目前處於成熟期,而技術發展目前處於成長期。在電子產品輕薄短小、高效能的需求下,預期蝕刻技術將持續被商業化應用。
5.蝕刻技術的領先地位,美商已逐漸被亞洲企業所取代,尤其近來南韓的半導體廠商最為積極。台灣的台積電和聯電過去已累積雄厚的技術發展基礎,惟台灣在基礎研究與產學合作方面仍待加強。

Identiferoai:union.ndltd.org:CHENGCHI/G0095359010
Creators徐竣祈
Publisher國立政治大學
Source SetsNational Chengchi University Libraries
Language中文
Detected LanguageUnknown
Typetext
RightsCopyright © nccu library on behalf of the copyright holders

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