電子温度制御プラズマによるラジカルの単色化に関する研究

Description

科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:11305004 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1999-2001年度

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1. http://hdl.handle.net/2237/13114

Tags

CVD

electron temperature

etching

gas phase reaction

plasma

process

radical

selective production

エッチング

プラズマ

プロセス

ラジカル

単色化

気相反応

電子温度

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:NAGOYA/oai:ir.nul.nagoya-u.ac.jp:2237/13114
Date	03 1900
Creators	後藤, 俊夫, 堀, 勝, 伊藤, 昌文
Source Sets	Nagoya University
Language	Japanese
Detected Language	Japanese
Type	Research Paper