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Röntgenografische Charakterisierung von Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten

Mittels reaktivem Magnetron-Sputtern hergestellte Indium-Zinn-Oxid-Dünnschichten
wurden mit den Methoden der Röntgendiffraktometrie und Röntgenreflektometrie charakterisiert.
Es konnte gezeigt werden, dass die Wahl des Arbeitspunktes bei der Schichtabscheidung
erheblichen Einfluss auf Kristallitorientierung, Gitterkonstante und Größe der Schichtspannung hat.
Zusätzlich wurden mittels des Langford-Verfahrens Korngröße und Mikrospannungen bestimmt.
Im Rahmen der röntgenografischen Spannungsmessung zeigten sich nichtlineare Verläufe der
Dehnung über sin²Ψ, die mit dem Kornwechselwirkungsmodell nach Vook und Witt
erklärt werden.

Identiferoai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa:de:qucosa:18444
Date26 September 2005
CreatorsKaune, Gunar
ContributorsTechnische Universität Chemnitz
Source SetsHochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
LanguageGerman
Detected LanguageGerman
Typedoc-type:masterThesis, info:eu-repo/semantics/masterThesis, doc-type:Text
Rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccess

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