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A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement / Siデバイス製造過程におけるプラズマプロセス誘起ダメージとその光学的測定方法論の研究

京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第17788号 / 工博第3767号 / 新制||工||1576(附属図書館) / 30595 / 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 / (主査)教授 斧 髙一, 教授 木村 健二, 教授 立花 明知 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/179357
Date23 May 2013
CreatorsMatsuda, Asahiko
Contributors斧, 髙一, 木村, 健二, 立花, 明知, 松田, 朝彦, マツダ, アサヒコ
Publisher京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Formatapplication/pdf
Rights許諾条件により要旨・本文は2014-05-22に公開

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