Made available in DSpace on 2014-06-12T18:05:51Z (GMT). No. of bitstreams: 2
arquivo7695_1.pdf: 2537717 bytes, checksum: 60ca15ac8000b97ca710ead44bed4782 (MD5)
license.txt: 1748 bytes, checksum: 8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33 (MD5)
Previous issue date: 1996 / Conselho Nacional de Desenvolvimento Científico e Tecnológico / Neste trabalho é estudado a deposição de filmes finos metálicos e refratários por magnetron
sputtering utilizando-se tanto de uma fonte de como rf. Os pontos ótimos de trabalho foram
determinados em função da pressão na câmara de deposição e da potência das fontes para os
seguintes materiais: Nb, Ti, Mo, W e Si, obtendo assim um treinamento na utilização da máquina
de deposição ao mesmo tempo que preparando-a para futuros usuários. Especial atenção é dada à
deposição e caracterização de filmes finos de Nb com espessura entre 300 Å e 10000 Å. As
características supercondutoras destes filmes são analisadas através de medidas de
susceptibilidade ac, magnetização dc e da razão de resistência. O diagrama de fase campo
magnético temperatura (H-T), obtido de seqüências de esfriamento a campo nulo (ZFC) e em
campo (FC), revela uma forte dependência da linha de irreversibilidade com a espessura do filme.
Em filmes mais finos a região de irreversibilidade diminui. Este efeito é atribuído a danos
superficiais causados por tensões ou por defeitos
Identifer | oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.ufpe.br:123456789/6538 |
Date | January 1996 |
Creators | ROLIM, Ana Luiza de Souza |
Contributors | AGUIAR, Jose Albino Oliveira de |
Publisher | Universidade Federal de Pernambuco |
Source Sets | IBICT Brazilian ETDs |
Language | Portuguese |
Detected Language | Portuguese |
Type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/masterThesis |
Source | reponame:Repositório Institucional da UFPE, instname:Universidade Federal de Pernambuco, instacron:UFPE |
Rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
Page generated in 0.0153 seconds