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Study on Solution-Based Formation of Device-Element Thin Films at Low Temperatures / 溶液プロセスによるデバイス用薄膜の低温成膜に関する研究

Kyoto University (京都大学) / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第17161号 / 工博第3651号 / 新制||工||1554(附属図書館) / 29900 / 京都大学大学院工学研究科電子工学専攻 / (主査)教授 藤田 静雄, 教授 髙岡 義寛, 教授 川上 養一 / 学位規則第4条第1項該当

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/161017
Date24 September 2012
CreatorsPiao, Jinchun
Contributors藤田, 静雄, 髙岡, 義寛, 川上, 養一, 朴, 今春, パク, コンシュン
Publisher京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
TypeDFAM, Thesis or Dissertation
Formatapplication/pdf
Rights許諾条件により要旨・本文は2013-04-01に公開

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