Die Arbeit befasst sich mit dem Wachstum dünner CrSi2-Schichten auf Si(001). Die Schichtherstellung wurde mittels eines template-Verfahrens in einer MBE-Anlage realisiert. Die Charakterisierung der Schichten erfolgte mittels RBS,AES,LEED,REM,TEM,XRD sowie Widerstandsmessungen.
Identifer | oai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa:de:qucosa:17999 |
Date | 11 December 2002 |
Creators | Allenstein, Frank |
Contributors | Technische Universität Chemnitz |
Source Sets | Hochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden |
Language | German |
Detected Language | German |
Type | doc-type:masterThesis, info:eu-repo/semantics/masterThesis, doc-type:Text |
Rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
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