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LEED- und AES-Untersuchungen an SilicidschichtenAllenstein, Frank 12 June 2003 (has links) (PDF)
Die Arbeit befasst sich mit dem Wachstum dünner CrSi2-Schichten auf Si(001). Die Schichtherstellung wurde mittels eines template-Verfahrens in einer MBE-Anlage realisiert. Die Charakterisierung der Schichten erfolgte mittels RBS,AES,LEED,REM,TEM,XRD sowie Widerstandsmessungen.
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LEED- und AES-Untersuchungen an SilicidschichtenAllenstein, Frank, January 2002 (has links)
Chemnitz, Techn. Univ., Diplomarb., 2002.
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LEED- und AES-Untersuchungen an SilicidschichtenAllenstein, Frank 11 December 2002 (has links)
Die Arbeit befasst sich mit dem Wachstum dünner CrSi2-Schichten auf Si(001). Die Schichtherstellung wurde mittels eines template-Verfahrens in einer MBE-Anlage realisiert. Die Charakterisierung der Schichten erfolgte mittels RBS,AES,LEED,REM,TEM,XRD sowie Widerstandsmessungen.
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