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1	Lanthanzirkonat ein innovatives Wärmedämmschichtmaterial für Heissgas beaufschlagte Komponenten von mobilen und stationären Gasturbinen Lackner, Kristijan January 2005 (has links) Zugl.: Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2005
2	Design, Herstellung und Lebensdauer gradierter elektronenstrahlgedampfter Wärmedämmschichten im System Aluminiumoxid, Zirkonoxid Leushake, Uwe. Unknown Date (has links) (PDF) Techn. Hochsch., Diss., 2001--Aachen.
3	Lanthanzirkonat : ein innovatives Wärmedämmschichtmaterial für Heißgas beaufschlagte Komponenten von mobilen und stationären Gasturbinen / Lackner, Kristijan. January 2006 (has links) Techn. Hochsch., Diss.--Aachen, 2005.
4	Ionenunterstützte Antimon-Dotierung für die Silizium-Molekularstrahlepitaxie von Bauelementstrukturen Eifler, Georg, January 2005 (has links) Stuttgart, Univ., Diss., 2005.
5	Herstellungsverfahren für lange Supraleiterbänder der 2. Generation Lümkemann, Andreas. Unknown Date (has links) Techn. Universiẗat, Diss., 2005--München.
6	Werkzeuge und Methoden zur Automatisierung der seriellen Nanomontage im Rasterelektronenmikroskop Wich, Thomas January 2008 (has links) Zugl.: Oldenburg, Univ., Diss., 2008
7	Plasma sprayed and physically vapor deposited thermal barrier coatings: comparative analysis of thermoelastic behavior based on curvature studies Zubacheva, Oxana A. January 2004 (has links) (PDF) Aachen, Techn. Hochsch., Diss., 2004
8	Struktur und Eigenschaften von TiO2-Schichten, abgeschieden durch reaktive plasmaaktivierte Elektronenstrahl-Bedampfung Modes, Thomas 16 July 2009 (has links) (PDF) Titandioxidschichten wurden mittels reaktiver Elektronenstrahlbedampfung und mit reaktiver plasmaaktivierter Bedampfung bei hohen Beschichtungsraten abgeschieden. Die Plasmaaktivierung erfolgte mittels einer diffusen katodischen Bogenentladung. Die gebildeten Phasen – amorph, Anatas oder Rutil – sind von Substrattemperatur und ratebezogenem Sauerstoffdruck abhängig. Für die Bildung der kristallinen Phasen wird eine Substrattemperatur von mindestens 150 bis 200 °C benötigt. Ohne Plasmaaktivierung abgeschiedene Schichten sind durch eine hohe Porosität und einen Sauerstoffüberschuss gekennzeichnet. Mit Plasmaaktivierung werden dichtere Schichten mit stöchiometrischer Zusammensetzung abgeschieden. Damit verbunden sind deutlich höhere Werte für Brechungsindex, Härte und E-Modul, die mit den Bulkwerten der jeweiligen Phasen vergleichbar sind. Die kristallinen Schichten, insbesondere die mit Plasmaaktivierung abgeschiedenen Anatas-Schichten, zeichnen sich durch photoinduzierte Hydrophilie und hohe photokatalytische Aktivität aus. Die Beschichtungsrate ist mit 30 bis 70 nm/s ein bis zwei Größenordnungen gegenüber Magnetronsputtern höher. Die plasmaaktivierte Bedampfung mittels diffuser katodischer Bogenentladung eröffnet damit die produktive Abscheidung von dichten Titandioxidschichten bei hohen Beschichtungsraten auf großen Flächen für verschiedenste Anwendungen, z. B. als optische Schicht oder für Antibeschlagsausrüstung. Titandioxid Dünnschichttechnik PVD-Verfahren Elektronenstrahlverdampfen Gefüge Optische Eigenschaft Hydrophiles Verhalten Photokatalyse Plasma Stoffeigenschaft ddc:660 rvk:UP 7500
9	Struktur und Eigenschaften von TiO2-Schichten, abgeschieden durch reaktive plasmaaktivierte Elektronenstrahl-Bedampfung Modes, Thomas 20 January 2006 (has links) Titandioxidschichten wurden mittels reaktiver Elektronenstrahlbedampfung und mit reaktiver plasmaaktivierter Bedampfung bei hohen Beschichtungsraten abgeschieden. Die Plasmaaktivierung erfolgte mittels einer diffusen katodischen Bogenentladung. Die gebildeten Phasen – amorph, Anatas oder Rutil – sind von Substrattemperatur und ratebezogenem Sauerstoffdruck abhängig. Für die Bildung der kristallinen Phasen wird eine Substrattemperatur von mindestens 150 bis 200 °C benötigt. Ohne Plasmaaktivierung abgeschiedene Schichten sind durch eine hohe Porosität und einen Sauerstoffüberschuss gekennzeichnet. Mit Plasmaaktivierung werden dichtere Schichten mit stöchiometrischer Zusammensetzung abgeschieden. Damit verbunden sind deutlich höhere Werte für Brechungsindex, Härte und E-Modul, die mit den Bulkwerten der jeweiligen Phasen vergleichbar sind. Die kristallinen Schichten, insbesondere die mit Plasmaaktivierung abgeschiedenen Anatas-Schichten, zeichnen sich durch photoinduzierte Hydrophilie und hohe photokatalytische Aktivität aus. Die Beschichtungsrate ist mit 30 bis 70 nm/s ein bis zwei Größenordnungen gegenüber Magnetronsputtern höher. Die plasmaaktivierte Bedampfung mittels diffuser katodischer Bogenentladung eröffnet damit die produktive Abscheidung von dichten Titandioxidschichten bei hohen Beschichtungsraten auf großen Flächen für verschiedenste Anwendungen, z. B. als optische Schicht oder für Antibeschlagsausrüstung. info:eu-repo/classification/ddc/660 ddc:660
10	Wachstumsanalyse amorpher dicker Schichten und Schichtsysteme / Growth analysis of thick amorphous films and multilayers Streng, Christoph 18 May 2004 (has links) No description available. Mathematics and Computer Science Dünne Schichten dicke Schichten Multilagen UHV Elektronenstrahlverdampfen metallische Gläser Rastertunnelmikroskopie Rasterkraftmikroskopie Oberflächenmorphologie diffuse Röntgenstreuung Röntgenreflektivität Molekulardynamiksimulation Kontinuumsmodell 530 Physik Thin films thick films multilayers UHV electron beam evaporation metallic glasses scanning tunneling microscopy scanning force microscopy surface morphology diffuse X-ray scattering X-ray reflection molecular dynamics simulation continuum model stochastic partial differential equation 33.66 33.68

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