Spelling suggestions: "subject:"epitaxieschicht"" "subject:"epitaxieschichten""
41 |
Einfluss reversibler epitaktischer Dehnung auf die ferroische Ordnung dünner SchichtenHerklotz, Andreas 24 April 2012 (has links)
In dieser Arbeit werden die Auswirkungen epitaktischer Dehnung auf die Eigenschaften ferromagnetischer und ferroelektrischer Perowskitschichten untersucht. Dazu wird der biaxiale Dehnungszustand einer Schicht reversibel verändert, indem einkristalline piezoelektrische Pb(Mg1/3Nb2/3)0.72Ti0.28O3 (001) Substrate (PMN-PT) verwendet werden. Ergänzt werden die Messungen mit dieser “dynamischen” Methode durch Untersuchungen an statisch gedehnten Schichten, gewachsen auf LaAlxSc1-xO3-Pufferschichten mit gezielt abgestimmter Gitterfehlpassung.
Drei verschiedene Materialsysteme werden studiert: die ferromagnetischen Oxide La0.8Sr0.2CoO3 und SrRuO3 und das ferroelektrische Pb(Zr,Ti)O3. Für La0.8Sr0.2CoO3 wird ein dehnungsinduzierter Übergang von der bekannten ferromagnetischen Phase zu einer magnetisch weniger geordneten, spinglasartigen Phase nachgewiesen. Es ergeben sich keine Hinweise auf eine Beeinflussung des Co-Spinzustandes.
In epitaktischen SrRuO3-Schichten bewirkt eine Zugdehnung einen strukturellen Phasenübergang von der orthorhombischen Bulk-Phase zu einer out-of-plane orientierten tetragonalen Phase. Die leichte Richtung liegt in der Ebene. Reversible Dehnungsmessungen zeigen einen deutlichen Einfluss auf die ferromagnetische Ordnungstemperatur und deuten auf eine geringe Veränderung des magnetischen Moments hin. Der Dehnungseffekt auf die elektrischen Transporteigenschaften wird bestimmt.
Pb(Zr,Ti)O3 wird als ferroelektrisches Standardmaterial genutzt, um erstmalig den Einfluss biaxialer Dehnung auf das ferroelektrische Schaltverhalten dünner Schichten zu untersuchen. Für kleine elektrische Felder zeigen die Messungen das typische Verhalten einer gepinnten Domänenwandbewegung. Hier wird der Schaltvorgang unter Piezokompression stark beschleunigt. Werden an die elektrischen Kontakte größere elektrische Felder angelegt, geht die Domänenwandbewegung in das Depinning-Regime über. Die Schaltkinetik wird in diesem Bereich unter Piezokompression leicht verlangsamt.:1 Einführung
1.1 Motivation
1.2 Methodik
1.3 Übersicht
2 Probenherstellung und -charakterisierung
2.1 Gepulste Laserdeposition
2.1.1 Prinzip
2.1.2 Aufbau
2.1.3 RHEED
2.1.4 Optimierung des Schichtwachstums
2.1.5 Targets
2.1.6 Substrate
2.2 Röntgendiffraktion
2.2.1 Röntgenmethoden
2.2.2 Röntgenreflektometrie
2.3 SQUID-Magnetometrie
2.4 Rasterkraftmikroskopie
2.5 Transportmessungen
2.6 Elektrische Polarisationsmessungen
3 PMN-PT
3.1 PMN-PT als piezoelektrisches Dünnschicht-Substrat
3.2 PMN-PT als Piezoaktuator
3.3 Temperaturabhängigkeit der Piezodehnung
3.4 Dehnungsübertragung in die Schicht
4 Puffersysteme
4.1 Motivation
4.2 LaAlxSc1−xO3
4.3 BaxSr1−xTiO3
5 Dehnungseinfluss auf ferromagnetische Filme - La0.8Sr0.2CoO3
5.1 Grundlagen zu La1−xSrxCoO3
5.1.1 Struktur
5.1.2 Spinzustand
5.1.3 Magnetische Wechselwirkungen / Doppelaustausch
5.1.4 Phasendiagramm / magnetische Phasenseparation
5.2 Messungen
5.2.1 Gitter- und Mikrostruktur
5.2.2 Curie-Temperatur
5.2.3 Magnetoelastischer Effekt
5.2.4 Magnetisierungsschleifen
5.2.5 elektrischer Transport
5.3 Zusammenfassung und Ausblick
6 Dehnungseinfluss auf ferromagnetische Filme - SrRuO3
6.1 Grundlagen zu SrRuO3
6.1.1 Struktur
6.1.2 Magnetismus
6.1.3 Elektrischer Transport
6.2 Messungen
6.2.1 Gitter- und Mikrostruktur
6.2.2 Magnetismus
6.2.3 Elektrischer Transport
6.3 Zusammenfassung und Ausblick
7 Dehnungseinfluss auf ferroelektrische Filme - PbZr1−xTixO3
7.1 Grundlagen
7.1.1 PbZr1−xTixO3
7.1.2 Elektrische Polarisation
7.1.3 Koerzitivfeld
7.1.4 Domänendynamik
7.2 Messungen
7.2.1 Gitterstruktur
7.2.2 Standardcharakterisierung: Dehnungseinfluss auf die remanente
Polarisation Pr und das Koerzitivfeld EC
7.2.2.1 Statische Messungen
7.2.2.2 Dehnungsmessungen
7.2.3 PUND-Messungen: Dehnungseinfluss auf die charakteristische
Schaltzeit tsw
7.3 Zusammenfassung und Ausblick
8 Zusammenfassung / In this work, the effect of epitaxial strain on the properties of ferromagnetic and ferroelectric perovskite thin films is studied. Single-crystalline piezoelectric Pb(Mg1/3Nb2/3)0.72Ti0.28O3 (001) substrates (PMN-PT) are utilized to reversibly change the biaxial strain state of the films. The measurements performed by this “dynamic” approach are complemented by studying statically strained films grown on LaAlxSc1-xO3 buffer layers with deliberately tuned lattice misfit.
Three different material systems are investigated: the ferromagnetic oxides La0.8Sr0.2CoO3 and SrRuO3 and the ferroelectric compound Pb(Zr,Ti)O3. In case of La0.8Sr0.2CoO3 a strain-induced transition from the known ferromagnetic phase to a magnetically less ordered spinglas-like phase is observed. No indications for an effect on the Co spin state are found.
In epitaxial SrRuO3 films tensile strain is causing a structural phase transition from the bulk-like orthorhombic structure to an out-of-plane oriented tetragonal phase. The magnetic easy axis is in the film plane. Reversible strain experiments show a significant effect on the ferromagnetic ordering temperature and point to a small change of the magnetic moment. The strain effect on the electric transport properties is also determined.
Pb(Zr,Ti)O3 as a standard ferroelectric material is used to study the influence of biaxial strain on the ferroelectric switching behaviour of thin films for the first time. At small electric fields the measurements reveal the typical signs of creep-like domain wall motion caused by wall pinning. In this regime the switching process is accelerated strongly under piezo-compression. For higher electric fields a transition of the domain wall motion to the depinning regime is observed. Here, the switching kinetics is slowed down moderately by compressive strain.:1 Einführung
1.1 Motivation
1.2 Methodik
1.3 Übersicht
2 Probenherstellung und -charakterisierung
2.1 Gepulste Laserdeposition
2.1.1 Prinzip
2.1.2 Aufbau
2.1.3 RHEED
2.1.4 Optimierung des Schichtwachstums
2.1.5 Targets
2.1.6 Substrate
2.2 Röntgendiffraktion
2.2.1 Röntgenmethoden
2.2.2 Röntgenreflektometrie
2.3 SQUID-Magnetometrie
2.4 Rasterkraftmikroskopie
2.5 Transportmessungen
2.6 Elektrische Polarisationsmessungen
3 PMN-PT
3.1 PMN-PT als piezoelektrisches Dünnschicht-Substrat
3.2 PMN-PT als Piezoaktuator
3.3 Temperaturabhängigkeit der Piezodehnung
3.4 Dehnungsübertragung in die Schicht
4 Puffersysteme
4.1 Motivation
4.2 LaAlxSc1−xO3
4.3 BaxSr1−xTiO3
5 Dehnungseinfluss auf ferromagnetische Filme - La0.8Sr0.2CoO3
5.1 Grundlagen zu La1−xSrxCoO3
5.1.1 Struktur
5.1.2 Spinzustand
5.1.3 Magnetische Wechselwirkungen / Doppelaustausch
5.1.4 Phasendiagramm / magnetische Phasenseparation
5.2 Messungen
5.2.1 Gitter- und Mikrostruktur
5.2.2 Curie-Temperatur
5.2.3 Magnetoelastischer Effekt
5.2.4 Magnetisierungsschleifen
5.2.5 elektrischer Transport
5.3 Zusammenfassung und Ausblick
6 Dehnungseinfluss auf ferromagnetische Filme - SrRuO3
6.1 Grundlagen zu SrRuO3
6.1.1 Struktur
6.1.2 Magnetismus
6.1.3 Elektrischer Transport
6.2 Messungen
6.2.1 Gitter- und Mikrostruktur
6.2.2 Magnetismus
6.2.3 Elektrischer Transport
6.3 Zusammenfassung und Ausblick
7 Dehnungseinfluss auf ferroelektrische Filme - PbZr1−xTixO3
7.1 Grundlagen
7.1.1 PbZr1−xTixO3
7.1.2 Elektrische Polarisation
7.1.3 Koerzitivfeld
7.1.4 Domänendynamik
7.2 Messungen
7.2.1 Gitterstruktur
7.2.2 Standardcharakterisierung: Dehnungseinfluss auf die remanente
Polarisation Pr und das Koerzitivfeld EC
7.2.2.1 Statische Messungen
7.2.2.2 Dehnungsmessungen
7.2.3 PUND-Messungen: Dehnungseinfluss auf die charakteristische
Schaltzeit tsw
7.3 Zusammenfassung und Ausblick
8 Zusammenfassung
|
42 |
Atomistische Modellierung und Simulation des Filmwachstums bei GasphasenabscheidungenLorenz, Erik E. 27 November 2014 (has links)
Gasphasenabscheidungen werden zur Produktion dünner Schichten in der Mikro- und Nanoelektronik benutzt, um eine präzise Kontrolle der Schichtdicke im Sub-Nanometer-Bereich zu erreichen. Elektronische Eigenschaften der Schichten werden dabei von strukturellen Eigenschaften determiniert, deren Bestimmung mit hohem experimentellem Aufwand verbunden ist.
Die vorliegende Arbeit erweitert ein hochparalleles Modell zur atomistischen Simulation des Wachstums und der Struktur von Dünnschichten, welches Molekulardynamik (MD) und Kinetic Monte Carlo-Methoden (KMC) kombiniert, um die Beschreibung beliebiger Gasphasenabscheidungen. KMC-Methoden erlauben dabei die effiziente Betrachtung der Größenordnung ganzer Nano-Bauelemente, während MD für atomistische Genauigkeit sorgt.
Erste Ergebnisse zeigen, dass das Parsivald genannte Modell Abscheidungen in Simulationsräumen mit einer Breite von 0.1 µm x 0.1 µm effizient berechnet, aber auch bis zu 1 µm x 1 µm große Räume mit 1 Milliarden Atomen beschreiben kann. Somit lassen sich innerhalb weniger Tage Schichtabscheidungen mit einer Dicke von 100 Å simulieren. Die kristallinen und amorphen Schichten zeigen glatte Oberflächen, wobei auch mehrlagige Systeme auf die jeweilige Lagenrauheit untersucht werden. Die Struktur der Schicht wird hauptsächlich durch die verwendeten molekulardynamischen Kraftfelder bestimmt, wie Untersuchungen der physikalischen Gasphasenabscheidung von Gold, Kupfer, Silizium und einem Kupfer-Nickel-Multilagensystem zeigen. Stark strukturierte Substrate führen hingegen zu Artefakten in Form von Nanoporen und Hohlräumen aufgrund der verwendeten KMC-Methode. Zur Simulation von chemischen Gasphasenabscheidungen werden die Precursor-Reaktionen von Silan mit Sauerstoff sowie die Hydroxylierung von alpha-Al2O3 mit Wasser mit reaktiven Kraftfeldern (ReaxFF) berechnet, allerdings ist weitere Arbeit notwendig, um komplette Abscheidungen auf diese Weise zu simulieren.
Mit Parsivald wird somit die Erweiterung einer Software präsentiert, die Gasphasenabscheidungen auf großen Substraten effizient simulieren kann, dabei aber auf passende molekulardynamische Kraftfelder angewiesen ist.:Inhaltsverzeichnis
Abbildungsverzeichnis
Tabellenverzeichnis
Abkürzungsverzeichnis
Symbolverzeichnis
1 Einleitung
2 Grundlagen
2.1 Gasphasenabscheidungen
2.1.1 Physikalische Gasphasenabscheidung
2.1.2 Chemische Gasphasenabscheidung
2.1.3 Atomlagenabscheidung
2.1.4 Methoden zur Simulation von Gasphasenabscheidungen
2.2 Molekulardynamik
2.2.1 Formulierung der Molekulardynamik
2.2.2 Auswahl verfügbarer Molekulardynamik-Software
2.2.3 Molekulardynamische Kraftfelder
2.3 Kinetic Monte Carlo-Methoden
2.4 Datenstrukturen
2.4.1 Numerische Voraussetzungen an Gasphasenabscheidungen
2.4.2 Vergleich der Laufzeiten für verschiedene Datenstrukturen
2.4.3 Effiziente Datenstrukturen
2.4.4 Alpha-Form
3 Methoden und Modelle
3.1 Stand der Forschung
3.1.1 Anwendungen von KMC-Simulationen für die Gasphasenabscheidung
3.1.2 Anwendung von MD-Simulationen für die Gasphasenabscheidung
3.2 Parsivald-Modell
3.2.1 Zielsetzung für Parsivald
3.2.2 Beschreibung des Parsivald-Modells
3.2.3 Annahmen und Einschränkungen
3.2.4 Erweiterungen im Rahmen der Masterarbeit
3.2.5 Behandlung von fehlerhaften Ereignissen
3.3 Laufzeitanalyse von Parsivald-Simulationen
3.3.1 Ereignis-Laufzeit TE
3.3.2 Ereignis-Durchsatz RE
3.3.3 MD-Laufzeit TMD
3.3.4 Worker-Laufzeit Tworker
3.3.5 Serielle Laufzeit T1
3.3.6 Anzahl der parallelen Prozesse p
3.3.7 Workerdichte rhoworker
3.3.8 Parallele Laufzeit Tp
3.3.9 Speedup Sp
3.3.10 Parallele Effizienz Ep
3.3.11 Auswertung der Laufzeitparameter
3.3.12 Fazit
3.4 MD-Simulationen: Methoden und Auswertungen
3.4.1 Zeitskalen in MD-Simulationen
3.4.2 Relaxierungen
3.4.3 Strukturanalysen
3.4.4 Bestimmung der Dichte und Temperatur
3.4.5 Radiale Verteilungsfunktionen, Bindungslänge und Koordinationszahl
3.4.6 Oberfläche, Schichtdicke, Rauheit und Porösität
3.4.7 Reaktionen und Stabilität von Molekülen
4 Simulationen von Gasphasenabscheidungen
4.1 Gold-PVD
4.1.1 Voruntersuchungen
4.1.2 Thermodynamische Eigenschaften
4.1.3 Simulation von Gold-PVD
4.1.4 Skalierbarkeit mit der Simulationsgröße
4.1.5 Fazit
4.2 Kupfer-PVD
4.2.1 Voruntersuchungen
4.2.2 Thermodynamische Eigenschaften
4.2.3 Simulation von Kupfer-PVD
4.2.4 Untersuchung der maximalen Workerdichte
4.2.5 Fazit
4.3 Multilagen-PVD
4.3.1 Multilagen-Simulationen mit Parsivald
4.3.2 Vergleich mit Ergebnissen reiner MD-Simulationen
4.3.3 Vergleich der Parallelisierbarkeit
4.3.4 Fazit
4.4 Silizium-PVD
4.4.1 Voruntersuchungen
4.4.2 Simulationen von Silizium-PVD
4.4.3 Fazit
4.5 Aluminiumoxid-ALD
4.5.1 ReaxFF-Parametersätze
4.5.2 Voruntersuchungen
4.5.3 Fazit
5 Zusammenfassung und Ausblick
5.1 Zusammenfassung
5.2 Ausblick
A Physikalische Konstanten und Stoffeigenschaften
B Datenstrukturen
B.1 Übersicht über KMC-Operationen
B.2 Beschreibung grundlegender Datenstrukturen
B.3 Delaunay-Triangulationen
B.3.1 Ausgewählte Eigenschaften einer Delaunay-Triangulation
B.3.2 Algorithmen zur Konstruktion einer Delaunay-Triangulation
C Ergänzungen zur Laufzeitanalyse von Parsivald
C.1 Einfluss der Ereignis-Laufzeit auf die effiziente Raumgröße weff
C.2 Zusätzliche Einflüsse auf das Maximum der Prozesse pmax
C.3 Abschätzung der maximalen Workerdichte per Random Sequential Adsorption
D Ergänzungen zur Simulation von Gold-PVD
E Multilagen-PVD
E.1 Porenbildung bei Unterrelaxation
E.2 Simulationen mit Lagendicken von jeweils 5 nm
F Simulation der CVD-Precursormoleküle Silan und Sauerstoff
F.1 Stabilität der Precursormoleküle
F.2 Reaktion der Precursormoleküle
Literaturverzeichnis
|
Page generated in 0.057 seconds