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Estudos das propriedades de filmes finos de óxidos semicondutores dirigidos aos efeitos piezoresistivos

Guilherme Wellington Alves Cardoso 01 July 2013 (has links)
Nesse trabalho são apresentados estudos sobre a deposição de filmes finos de óxidos semicondutores, óxido de zinco (ZnO), dióxido de titânio (TiO2) e dióxido de silício (SiO2), por meio da técnica denominada magnetron sputtering, utilizando fontes de potência de rádio frequência e corrente contínua. Os filmes de óxidos foram crescidos sobre substratos de silício e dióxido de silício, variando-se alguns parâmetros de deposição como: a distância axial (z0), a concentração de oxigênio na mistura de Ar e O2, a temperatura do substrato, a pressão de trabalho e a potência aplicada. As amostras foram caracterizadas por perfilometria, difração de raios-X (XRD), quatro pontas, RBS (Rutherford backscattering spectrometry) e nanoindentação. Os resultados mostraram que os filmes produzidos apresentam alterações estruturais de acordo com os parâmetros de deposição. Através das correlações entre os parâmetros de deposição e as características dos filmes, foi possível selecionar um conjunto de amostras com características elétricas e mecânicas mais adequadas para uso em sensores piezoresistivos. Entre os óxidos estudados, o ZnO foi o que apresentou melhores características, chegando-se a obter filmes com resistividade elétrica na ordem de 10-2 ?.cm, módulo de elasticidade de 156 GPa e gauge factor de 2,4. Destaque especial deve ser dado à eficiência do processo de recozimento térmico na obtenção desses resultados.
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Deposição e caracterização de filmes de óxidos de cobre por spray pirólise

Vieira, Paulo Victor Coutinho 24 February 2014 (has links)
Copper oxides are currently being implemented in various sectors ranging from agriculture to the industry of the electronic components. Due to their structural, optical and electrical properties copper oxides have been studied in several areas such as solar cells, semiconductor materials and cathodes of lithium ion batteries. This fact demonstrates this material is very versatile. In this work copper oxides films were deposited by spray pyrolysis technique using the method of sucrose. This method consists on use of solution, which sucrose is the chelating agent. The parameters of synthesis and deposition were controlled for depositing both copper (I) and copper (II) oxides. They play an important role in influencing the physical properties of the films mainly by changing of the sucrose concentration and temperature of deposition of the film. Measurements of X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM) and electrical measure for determining the structural, morphological and electrical properties were carried out. The results shows nanostructured films were grown and the phases can be controlled as much changing the parameter depositions (temperature) as changing the sucrose concentration. It was carried out a heat treatment on the samples in order to analyze the influence of heating on the physical properties. / Os Óxidos de cobre estão atualmente sendo implementados em vários setores, que vão desde a agricultura até a indústria de componentes eletrônicos. Devido às suas propriedades estruturais, ópticas e elétricas, os óxidos de cobre têm sido alvos de pesquisas em várias áreas, tais como células solares, materiais semicondutores e cátodos de baterias de íon de lítio, este fato demonstra ser um material muito versátil. Neste trabalho, filmes de óxidos de cobre, foram depositadas pela técnica spray pirólise, usando o método da sacarose para produção da solução precursora. Este método consiste na utilização de uma solução precursora cuja sacarose tem a função de agente quelante. Os parâmetros de síntese e deposição foram controlados para depositar filmes de óxidos de cobre (I) e óxidos de cobre (II). Estes parâmetros desempenham um papel importante na influencia das propriedades físicas dos filmes, principalmente por alterar a concentração de sacarose e a temperatura de deposição dos filmes. Medidas de difração de raios-X (DRX), microscopia eletrônica de varredura (MEV) e duas pontas foram realizadas para determinar as propriedades estruturais, morfológicas e elétricas. Os resultados mostram filmes nanoestruturados e as fases podem ser controladas tanto pela alteração da temperatura de deposições quanto pela concentração de sacarose. Foi efetuado um tratamento térmico nas amostras, a fim de analisar a influência do aquecimento sobre as propriedades físicas.

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